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J-GLOBAL ID:201702222774313424   整理番号:17A0889978

300°Cまでのアナログおよびディジタル応用のための高温サブミクロンSOI CMOS技術の特性化【Powered by NICT】

High temperature submicron SOI CMOS technology characterization for analog and digital applications up to 300°C
著者 (7件):
資料名:
巻: 2017  号: SEMI-THERM  ページ: 229-234  発行年: 2017年 
JST資料番号: W2441A  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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SOI CMOS技術は,拡張された高温(HT)適用範囲(300°Cまで)のために開発した。MOSFETは二つのオプション:最小ゲート長をもつディジタル応用のための0.18μmと1.8V電源電圧と最小ゲート長さ0.5μmおよび5V電源でアナログ応用のためのものである。電気特性測定の結果を実証し,解析し,両方のオプションのSOI MOSFETと比較した。SPICEによるHT SOI CMOS回路シミュレーションの可能性を提供するために300°Cまでの広い温度範囲のために開発した改質されたSOI MOSFETコンパクトモデル。Copyright 2017 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】
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