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J-GLOBAL ID：201702222870180592   整理番号：17A1360571

水素とハロゲン結合アニオン結合空洞を用いた中性ヘテロジトピック[2]ロタキサンイオン対ホスト系の銅(II)-指向合成【Powered by NICT】

Copper(ii)-directed synthesis of neutral heteroditopic [2]rotaxane ion-pair host systems incorporating hydrogen and halogen bonding anion binding cavities

著者 (5件)： Brown Asha (Chemistry Research Laboratory, Department of Chemistry, University of Oxford, Mansfield Road, Oxford, OX1 3TA, UK. [e-mail]) ,  Mennie Katrina M. ,  Mason Owen ,  White Nicholas G. ,  Beer Paul D.
資料名： Dalton Transactions  (Dalton Transactions)
巻： 46  号： 39  ページ： 13376-13385  発行年： 2017年 
JST資料番号： A0270A  ISSN： 1477-9226  CODEN： DTARAF  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 中性ヘテロジトピック[2]ロタキサンイオン対ホスト系は,Cu(ii)指向性不動態金属テンプレート戦略により合成した。各ロタキサンをゲストアニオンと遷移金属対カチオンのために,離散的な軸分離インターロックされた結合部位を含んでいた。アニオン結合部位は収束X-H(X=C, N)水素結合ドナー基,または混合X-HおよびC-I水素とハロゲン結合ドナー基から構成されているが,アミン,ピリジン及びカルボニル酸素ドナー基の等価三次元アレイは遷移金属結合部位を含んでいた。CDCl_3/CD3ODまたはCDCl_3/CD3OD/D_二零溶媒混合物における 1H NMR滴定実験は,ヘテロジトピック[2]ロタキサンホストシステムはCo結合Zn(ii)カチオンの存在のもとにおける協調的アニオン認識が可能なことを明らかにした。Copyright 2018 Royal Society of Chemistry All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： *ロタキサン ,  *化学結合 ,  *水素結合 ,  *銅錯体 ,  化学合成 ,  過塩素酸塩 ,  空洞
準シソーラス用語： *ハロゲン結合 ,  鋳型合成

分類 (2件)： 第11族,第12族元素の錯体  (CE01050Y) ,  シクロファン,カテナン,ロタキサン,カリキサレン,ノット(三つ葉結び目)  (CF06120M)

物質索引 (4件)： N,N′-[イミノビス(エチレンイミノメチレン-p-フェニレンオキシエチレン)]イソフタルアミド ,  4-ヨードピリジン-2,6-ジカルボン酸ジメチル ,  N,N′-ビス[3-[4-(4,4′,4′′-トリ-tert-ブチルトリチル)フェノキシ]プロピル]-2,2′-ビピリジン-4,4′-ジカルボアミド ,  N,N′-ビス[2-[2-[4-[[4-(4,4′,4′′-トリ-tert-ブチルトリチル)フェノキシ]メチル]-1H-1,2,3-トリアゾール-1-イル]エトキシ]エチル]ピリジン-2,6-ジカルボアミド

タイトルに関連する用語 (8件)： 水素 ,  ハロゲン結合 ,  アニオン結合 ,  空洞 ,  中性 ,  ロタキサン ,  イオン対 ,  銅