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J-GLOBAL ID：201702222971160047   整理番号：17A0375212

水溶液中での四塩化炭素分解のための二酸化炭素ラジカルアニオンベースUV/S_2O_8~2-/HC00H還元過程【Powered by NICT】

Carbon dioxide radical anion-based UV/S₂O₈ ^2-/HCOOH reductive process for carbon tetrachloride degradation in aqueous solution

著者 (8件)： Gu Xiaogang (State Environmental Protection Key Laboratory of Environmental Risk Assessment and Control on Chemical Process, Shanghai Key Laboratory of Functional Materials Chemistry, East China University of Science and Technology, Shanghai 200237, China) ,  Gu Xiaogang (State Key Laboratory of Chemical Engineering, East China University of Science and Technology, Shanghai 200237, China) ,  Lu Shuguang (State Environmental Protection Key Laboratory of Environmental Risk Assessment and Control on Chemical Process, Shanghai Key Laboratory of Functional Materials Chemistry, East China University of Science and Technology, Shanghai 200237, China) ,  Fu Xiaori (State Environmental Protection Key Laboratory of Environmental Risk Assessment and Control on Chemical Process, Shanghai Key Laboratory of Functional Materials Chemistry, East China University of Science and Technology, Shanghai 200237, China) ,  Qiu Zhaofu (State Environmental Protection Key Laboratory of Environmental Risk Assessment and Control on Chemical Process, Shanghai Key Laboratory of Functional Materials Chemistry, East China University of Science and Technology, Shanghai 200237, China) ,  Sui Qian (State Environmental Protection Key Laboratory of Environmental Risk Assessment and Control on Chemical Process, Shanghai Key Laboratory of Functional Materials Chemistry, East China University of Science and Technology, Shanghai 200237, China) ,  Guo Xuhong (State Environmental Protection Key Laboratory of Environmental Risk Assessment and Control on Chemical Process, Shanghai Key Laboratory of Functional Materials Chemistry, East China University of Science and Technology, Shanghai 200237, China) ,  Guo Xuhong (State Key Laboratory of Chemical Engineering, East China University of Science and Technology, Shanghai 200237, China)
資料名： Separation and Purification Technology  (Separation and Purification Technology)
巻： 172  ページ： 211-216  発行年： 2017年 
JST資料番号： T0428B  ISSN： 1383-5866  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 二酸化炭素ラジカルアニオン(CO_2~-)によって媒介された四塩化炭素(CT)の還元性能を本研究で調べた,CO_2~-はUV/S_2O_8~2工程で生成したギ酸と硫酸ラジカルの反応により生成した。Cl~-,HCO_3~-,NO_3~およびSO_4~II wereなどの過硫酸塩とギ酸濃度,溶液pHおよびアニオンを含む種々の因子の影響を評価した。実験結果は,CTはほぼ1.50mM過硫酸塩と2.25mMぎ酸を用いて,60minで完全に除去できることを示した。CT分解効率は過硫酸塩増加(0.75 4.50mM)およびギ酸(0.75 2.25mM)濃度と共に増加することが分かった。pH調整溶液(pH6 8から)では,最大CT分解はpHが6で起こった。だけでなく,高濃度(10および100mM)でHCO_3~ ,Cl~およびNO_3~-(1 100mM)の両方は,CT分解性能に悪影響を与えた。CO_2~-スカベンジャーとしてメチルビオロゲンの添加はこのUV/S_2O_8~2-/HC00HプロセスにおけるCO_2~-の存在を証明し,Cl~放出率は240分後に80.6%であったCTの脱塩素は完全ではなかった。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： *二酸化炭素 ,  ペルオキソ硫酸塩 ,  *アニオンラジカル ,  脱塩素 ,  *アニオン ,  *水溶液 ,  スカベンジャー ,  ピリジニウム ,  脂肪族カルボン酸 ,  脂肪族塩素化合物
準シソーラス用語： 放出速度 ,  pH調整 ,  分解効率 ,  硫酸ラジカル , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： 紫外線照射 ,  Persulfate ,  のぎ酸 ,  二酸化炭素ラジカルアニオン ,  四塩化炭素の分解

分類 (3件)： 抽出  (XD02030B) ,  資源回収利用  (SC05060V) ,  廃水処理  (YM01030W)

物質索引 (3件)： メチルビオロゲン ,  ギ酸 ,  四塩化炭素

タイトルに関連する用語 (7件)： 水溶液 ,  四塩化炭素 ,  分解 ,  二酸化炭素 ,  ラジカルアニオン ,  還元 ,  過程