抄録/ポイント：
抄録/ポイント
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チタン酸化物であるチタニアは,光触媒活性を示す機能性酸化物として広く知られており,実用化に向けて,単位体積あるいは単位質量あたりの反応面積が大きいチタニア電極の作製が求められている。我々は,チタニア電極の作製法として,特殊な装置等を必要とせず,液相中での化学反応を利用した簡便な手法であるゾル-ゲル法に着目し,ナノオーダーで表面形態を制御した金属構造体上にゾル-ゲル法を用いて薄層のチタニアを析出させることで大表面積のチタニア電極をきわめて簡便に作製することができると考えた。金属ナノ構造体上に薄層のチタニア被覆を施すためには,金属上へのゾル-ゲル法によるチタニアの析出反応を制御し,目的のチタニア膜を得るための条件を最適化することが非常に重要である。金属上へ所望のチタニア膜を析出させるための反応浴条件の最適化手法としては,これまでに,水晶振動子(QCM)を用いた評価手法を提案しており,本研究ではこれを用いて実際にチタニア析出挙動の評価を行うとともに,液相還元法により金属ナノ構造体であるNiナノワイヤーを作製し,ナノワイヤー上への薄層チタニア被膜形成について検討を行った。その結果,前駆体添加量を制御することでNi基板上へのチタニアの不均一核生成が促されることが分かり,液相還元法により作製したNiナノワイヤー上にチタニア膜を形成することができた。(著者抄録)
