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J-GLOBAL ID：201702223059178693   整理番号：17A1449902

元素ブロック材料の未来展望 金属および半導体系元素ブロックによる電子材料の創製

著者 (1件)： 渡辺明 (東北大 多元物質科研)
資料名： 化学工業  (Chemical Industry)
巻： 68  号： 11  ページ： 857-863  発行年： 2017年11月01日 
JST資料番号： F0101A  ISSN： 0451-2014  CODEN： KAKOA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 次世代の製造技術としてプリンテッドエレクトロニクスが注目されている。電子材料を目指した,無機ナノコアからなる元素ブロックである金属および半導体系のナノ粒子を用いたレーザープロセッシングに関する研究結果を紹介した。1)フレキシブルポリマフィルムへの銅微細構造パターン形成,2)透明導電膜形成(),3)金属表面の機能化(POSSと銀ナノ粒子とのハイブリッド膜),4)3次元金属微細パターン形成。金属ナノ粒子へのレーザー光照射で誘起されるナノヒーター効果によるシンタリング,Cuマイクログリッドを表面に形成したPENフィルムの曲げに伴う抵抗値の変化などを示した。

シソーラス用語： レーザ加工 ,  レーザリソグラフィー ,  *電気材料 ,  *ナノ粒子 ,  パターン形成 ,  微細構造 ,  高分子薄膜 ,  電子技術 ,  インク ,  オリゴマ ,  ポリシルセスキオキサン ,  高分子有機-無機ハイブリッド ,  ポリエチレンナフタレート ,  酸化インジウムスズ ,  金属薄膜 ,  銀 ,  ミクロパターン形成 ,  銅ナノ粒子 ,  ナノインク ,  *金属ナノ粒子 ,  選択的レーザ焼結 ,  多面体オリゴシルスセスキオキサン ,  焼結 ,  熱処理 ,  処理
準シソーラス用語： レーザ焼結 ,  元素ブロック材料 ,  レーザ直接描画 ,  *電子材料 ,  プリンテッドエレクトロニクス ,  POSS【オリゴマ】

分類 (1件)： 固体デバイス材料  (NC03020K)

タイトルに関連する用語 (5件)： 元素 ,  未来 ,  展望 ,  電子材料 ,  創製