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J-GLOBAL ID：201702224407382926   整理番号：17A1447331

多成分表面と界面の信頼性の高い仕事関数決定:紫外光電子分光法における静電ポテンシャルの役割【Powered by NICT】

Reliable Work Function Determination of Multicomponent Surfaces and Interfaces: The Role of Electrostatic Potentials in Ultraviolet Photoelectron Spectroscopy

著者 (13件)： Schultz Thorsten (Humboldt Universitaet zu Berlin, Institut fuer Physik and IRIS Adlershof, Brook-Taylor-Strasse 6, Berlin, 12489, Germany) ,  Lenz Thomas (Max Planck Institute for Polymer Research, Ackermannweg 10, Mainz, 55128, Germany) ,  Lenz Thomas (Graduate School Materials Science in Mainz, Staudinger Weg 9, Mainz, 55128, Germany) ,  Kotadiya Naresh (Max Planck Institute for Polymer Research, Ackermannweg 10, Mainz, 55128, Germany) ,  Heimel Georg (Humboldt Universitaet zu Berlin, Institut fuer Physik and IRIS Adlershof, Brook-Taylor-Strasse 6, Berlin, 12489, Germany) ,  Glasser Gunnar (Max Planck Institute for Polymer Research, Ackermannweg 10, Mainz, 55128, Germany) ,  Berger Ruediger (Max Planck Institute for Polymer Research, Ackermannweg 10, Mainz, 55128, Germany) ,  Blom Paul W. M. (Max Planck Institute for Polymer Research, Ackermannweg 10, Mainz, 55128, Germany) ,  Blom Paul W. M. (Graduate School Materials Science in Mainz, Staudinger Weg 9, Mainz, 55128, Germany) ,  Amsalem Patrick (Humboldt Universitaet zu Berlin, Institut fuer Physik and IRIS Adlershof, Brook-Taylor-Strasse 6, Berlin, 12489, Germany) ,  de Leeuw Dago M. (Max Planck Institute for Polymer Research, Ackermannweg 10, Mainz, 55128, Germany) ,  de Leeuw Dago M. (Faculty of Aerospace Engineering, Delft University of Technology, Kluyverweg 1, Delft, 2629, HS, The Netherlands) ,  Koch Norbert (Humboldt Universitaet zu Berlin, Institut fuer Physik and IRIS Adlershof, Brook-Taylor-Strasse 6, Berlin, 12489, Germany)
資料名： Advanced Materials Interfaces  (Advanced Materials Interfaces)
巻： 4  号： 19  ページ： ROMBUNNO.201700324  発行年： 2017年 
JST資料番号： W2484A  ISSN： 2196-7350  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 紫外光電子分光法(UPS)は二次電子カットオフ(SECO)を測定することにより表面の仕事関数(Φ)を決定するための重要な技術である。しかし,UPSによって得られるSECOスペクトルの解釈は,多成分表面のための直接的ではなく,不均一性の長さスケールはSECOに影響するどの程度に包括的に理解されていない。ここでは,この研究は,Φの明確なパターンを持つ表面上の静電景観を決定する実験的および理論的にSECOのエネルギー分布を支配する物理学を明らかにした。このような試料では,測定したSECOスペクトルは実際に二カットオフ,高Φ表面成分表現と面積平均Φ値に対応する他の一つを示した。Kelvinプローブ力顕微鏡法と静電モデルを組み合わせることにより,高いΦ領域の静電ポテンシャルは,低Φ地域から放出される電子のための付加的なエネルギー障壁をもたらすことを実証した。Φパターン長さスケールと試料バイアスに誘起されたエネルギー障壁依存性の理論的予測は,実験的に検証した。これらの知見は,不均一表面の信頼できるSECO解釈とUPS実験からの界面エネルギー準位図の信頼性向上のための固体塩基を確立した。Copyright 2017 Wiley Publishing Japan K.K. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： *仕事関数 ,  エネルギー分布 ,  エネルギー準位 ,  スペクトル ,  *界面 ,  *光電子分光法 ,  不均一性 ,  *信頼性 ,  バイアス
準シソーラス用語： エネルギー障壁 ,  長さスケール ,  カットオフ ,  二次電子 ,  *静電ポテンシャル ,  *UPS【電子分光】 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： 電子材料 ,  マイクロコンタクトプリンティング ,  ナノ構造材料 ,  光電子分光法 ,  仕事関数

分類 (2件)： 電子分光スペクトル  (BM09060K) ,  表面の電子構造  (BM02080J)

タイトルに関連する用語 (4件)： 界面 ,  仕事関数 ,  静電ポテンシャル ,  役割