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J-GLOBAL ID：201702224443581107   整理番号：17A1537363

アルコキシシロキサンオリゴマの合成のためのトリメチルシリル化シリケートのトリメチルシリル基の保護および脱離基【Powered by NICT】

Protecting and Leaving Functions of Trimethylsilyl Groups in Trimethylsilylated Silicates for the Synthesis of Alkoxysiloxane Oligomers

著者 (8件)： Yoshikawa Masashi (Department of Applied Chemistry, Faculty of Science and Engineering, Waseda University, 3-4-1 Ohkubo, Shinjuku-ku, Tokyo, 169-8555, Japan) ,  Tamura Yasuhiro (Department of Applied Chemistry, Faculty of Science and Engineering, Waseda University, 3-4-1 Ohkubo, Shinjuku-ku, Tokyo, 169-8555, Japan) ,  Wakabayashi Ryutaro (Department of Applied Chemistry, Faculty of Science and Engineering, Waseda University, 3-4-1 Ohkubo, Shinjuku-ku, Tokyo, 169-8555, Japan) ,  Wakabayashi Ryutaro (Kagami Memorial Research Institute for Materials Science and Technology, Waseda University, 2-8-26 Nishiwaseda, Shinjuku-ku, Tokyo, 169-0051, Japan) ,  Tamai Misa (Department of Applied Chemistry, Faculty of Science and Engineering, Waseda University, 3-4-1 Ohkubo, Shinjuku-ku, Tokyo, 169-8555, Japan) ,  Shimojima Atsushi (Department of Applied Chemistry, Faculty of Science and Engineering, Waseda University, 3-4-1 Ohkubo, Shinjuku-ku, Tokyo, 169-8555, Japan) ,  Kuroda Kazuyuki (Department of Applied Chemistry, Faculty of Science and Engineering, Waseda University, 3-4-1 Ohkubo, Shinjuku-ku, Tokyo, 169-8555, Japan) ,  Kuroda Kazuyuki (Kagami Memorial Research Institute for Materials Science and Technology, Waseda University, 2-8-26 Nishiwaseda, Shinjuku-ku, Tokyo, 169-0051, Japan)
資料名： Angewandte Chemie. International Edition  (Angewandte Chemie. International Edition)
巻： 56  号： 45  ページ： 13990-13994  発行年： 2017年 
JST資料番号： H0127B  ISSN： 1433-7851  CODEN： ACIEAY  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 保護基と有機合成における脱離基の概念はシロキサン系分子の合成に適用した。SiO_4,RSiO_3,またはR_2SiO_2単位から成るアルコキシ官能化シロキサンオリゴマはターゲット(R:官能基,Me,Phのような)として選択した。アルコキシシリル基とトリメチルシリル(TMS)基の置換反応に基づくアルコキシシロキサンオリゴマの新しい合成について述べた。オリゴシロキサンはTMS基を触媒としてBiCl_3の存在下でalkoxychlorosilaneと反応させた。TMS基がアルコキシシリル基で置換されたアルコキシシロキサンオリゴマの合成をもたらした。RSiO_3とR_2SiO_2単位から成るシロキサンオリゴマはSiO_4ユニットから構成されているものよりも効率的に合成したオリゴシロキサンのTMS基の周りに立体障害は置換度の違いを生むことを示唆した。反応は両保護と脱離SiOH/SiO 基の基としてのTMS基を用いた。Copyright 2018 Wiley Publishing Japan K.K. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： *ポリシラン誘導体 ,  *オリゴマ ,  *シリル化 ,  塩化ビスマス ,  *基 ,  Lewis酸触媒 ,  立体障害 ,  置換基効果 ,  陽子磁気共鳴 ,  炭素13NMR ,  ケイ素29NMR ,  置換反応 ,  反応機構
準シソーラス用語： *トリメチルシリル化 ,  *ポリアルコキシシロキサン ,  *脱離基 ,  *保護基

著者キーワード (5件)： Lewis酸 ,  求核置換 ,  保護基 ,  シロキサンオリゴマ ,  トリメチルシリル基

分類 (2件)： 置換反応  (CF02020B) ,  有機けい素化合物  (CF08030C)

物質索引 (12件)： 1,3,5,7,9,11,13,15-オクタ(トリメチルシリルオキシ)-2,4,6,8,10,12,14,16,17,18,19,20-ドデカオキサ-1,3,5,7,9,11,13,15-オクタシラペンタシクロ[9.5.1.1^3,9.1^5,15.1^7,13]イコサン ,  1,3-ビス(トリメチルシリルオキシ)-1,1,3,3-テトラメチルプロパンジシロキサン ,  クロロメチルジメチルシラン ,  ジメトキシ(メチル)(クロロ)シラン ,  ジメトキシビニル(クロロ)シラン ,  テトラキス(トリメチルシリルオキシ)シラン ,  テトラキス[ジメトキシ(メチル)シリルオキシ]シラン ,  トリス(トリメチルシリルオキシ)(ジメトキシビニルシリルオキシ)シラン ,  トリス(トリメチルシリルオキシ)[トリス(トリメチルシリルオキシ)シリルオキシ]シラン ,  トリス(トリメチルシリルオキシ)ヒドロキシシラン ,  トリス(トリメチルシリルオキシ)フェニルシラン ,  トリス[ジメトキシ(メチル)シリルオキシ][ビニルジメトキシシリルオキシ]シラン

タイトルに関連する用語 (3件)： トリメチルシリル化 ,  シリケート ,  脱離基