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J-GLOBAL ID：201702224854568381   整理番号：17A1559544

EVA方解石複合膜の光化学的分解における光子管理【Powered by NICT】

Photon management in the photochemical degradation of EVA-calcite composite films

著者 (4件)： Perthue Anthony (Universite Clermont Auvergne, CNRS, SIGMA Clermont, Institut de Chimie de Clermont-Ferrand, F-63000, Clermont-Ferrand, France) ,  Boutinaud Philippe (Universite Clermont Auvergne, CNRS, SIGMA Clermont, Institut de Chimie de Clermont-Ferrand, F-63000, Clermont-Ferrand, France) ,  Therias Sandrine (Universite Clermont Auvergne, CNRS, SIGMA Clermont, Institut de Chimie de Clermont-Ferrand, F-63000, Clermont-Ferrand, France) ,  Gardette Jean-Luc (Universite Clermont Auvergne, CNRS, SIGMA Clermont, Institut de Chimie de Clermont-Ferrand, F-63000, Clermont-Ferrand, France)
資料名： Polymer Degradation and Stability  (Polymer Degradation and Stability)
巻： 144  ページ： 325-330  発行年： 2017年 
JST資料番号： E0404B  ISSN： 0141-3910  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 複合材料またはナノ複合材料のエージングを扱う主な疑問の一つは,高分子マトリックスの安定性に及ぼす充填剤の影響に関連している,充填剤は材料の光分解速度に影響を与えるかについて言い換えれば。純材料の酸化動力学の比較充填のものと一般的に回答をもたらす。しかしは考慮されないし,照射された材料の真の光路長である側面である。本論文では,この基本的アスペクト,EVA方解石複合膜の光酸化動力学に対する光散乱の影響を評価するために,方解石はマイクロまたはナノサイズ粉末の形で導入を検討した。光の散乱を駆動する理論的背景を考慮すると,光子滞留時間は粒子の大きさと入射光の波長と共に変化するかを示した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： *光化学 ,  滞留時間 ,  光酸化 ,  *光子 ,  粒度 ,  光分解 ,  *方解石 ,  光散乱 ,  複合材料 ,  *複合膜 ,  粉体 ,  ナノ複合材料 ,  波長
準シソーラス用語： 光路長 ,  高分子マトリックス , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： 光酸化 ,  光散乱 ,  Kinetics ,  Mie計算 ,  発光色素

分類 (3件)： 抵抗性  (YH02050K) ,  充填剤,補強材  (YH05030J) ,  高分子の分解,劣化  (CG03010A)

タイトルに関連する用語 (6件)： EVA ,  方解石 ,  複合膜 ,  光化学 ,  分解 ,  光子