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J-GLOBAL ID:201702224926454116   整理番号:17A1437496

PLA/EVAブレンドとその生成電気抵抗率の界面での還元グラフェン酸化物の選択的局在【Powered by NICT】

Selective localization of reduced graphene oxides at the interface of PLA/EVA blend and its resultant electrical resistivity
著者 (6件):
資料名:
巻: 38  号:ページ: 1982-1991  発行年: 2017年 
JST資料番号: E0987A  ISSN: 0272-8397  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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共連続PLA/EVA(60/40 wt%)ブレンドはPLA/rGOsとEVA/rGOsのマスタバッチを介して還元グラフェン酸化物(0.1 3 wt%)を充填した。結果は,ブレンドナノ複合材料を,マスタバッチPLAから調製したときrGOsは界面に位置していることを示した。一方,ブレンドナノ複合材料は,EVA/rGOs materbatchから調製したとき,rGOsはEVA成分に位置していた。PLA/EVA中のrGOsの選択的局在化の基礎となる機構を系統的に調べた。最初に,理論的予測は,二つの高分子成分の間の界面エネルギーを示し,rGOsは類似しており,rGOsは,ブレンドの界面に位置することを好む。rGOsの界面安定性と高分子の粘弾性特性を含む動力学的効果はrGOs移動の選択的局在化に重要な役割を果たしている。最後に電気抵抗率測定は,界面に位置するrGOsを有するナノ複合材料は,EVA成分に位置するrGOsブレンドナノ複合材料に比べてはるかに低い抵抗率とパーコレーションしきい値を備えていることを示した。Copyright 2017 Wiley Publishing Japan K.K. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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分類 (2件):
分類
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充填剤,補強材  ,  性質・試験一般 

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