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J-GLOBAL ID：201702225071502262   整理番号：17A0968539

SiCl_4火炎加水分解堆積法による大型・高品質溶融石英ガラスのための基板配置の設計と最適化【Powered by NICT】

Design and optimization of substrate placement for large-sized and high-quality fused silica glass by SiCl₄ flame hydrolysis deposition

著者 (5件)： Huang Yaosong (School of Aerospace Engineering, Tsinghua University, Beijing 100084, China) ,  Zheng Lili (School of Aerospace Engineering, Tsinghua University, Beijing 100084, China) ,  Zhang Hui (Department of Engineering Physics, Tsinghua University, Beijing 100084, China) ,  Zhang Guowu (Qinhuangdao Yaohua Quartz S&T Development CO., LTD, Qinhuangdao 066000, China) ,  Jiang Lixin (Qinhuangdao Yaohua Quartz S&T Development CO., LTD, Qinhuangdao 066000, China)
資料名： International Journal of Heat and Mass Transfer  (International Journal of Heat and Mass Transfer)
巻： 111  ページ： 917-932  発行年： 2017年 
JST資料番号： C0390A  ISSN： 0017-9310  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： SiCl_4火炎加水分解堆積法,特に基板配置の最適位置とSiO_2堆積とOH濃度の均一性の相関による大型高品質溶融石英ガラス合成の数値的研究を提示する。包括的な計算モデルは,詳細なSiCl_4 H_2 O_2反応機構と複雑な反応性乱流を記述するために開発した。数値シミュレーションは最初の基質とSiO_2粒子形成を考慮しないSiCl_4加水分解火炎の特性を得るために実施した。SiO_2蓄積の分布を計算した。打設基板の電位領域と位置は初期の均一なSiO_2蓄積の基準に基づいて決定した。さらに,温度,SiO_2濃度およびOH濃度の分布に及ぼすH_2 O_2当量比とSiCl_4流量の影響を調べた。H_2 O_2当量比が温度とOH濃度に敏感である,SiCl_4の流量は,主に温度とSiO_2濃度に影響を及ぼす。この知見はH_2 O_2当量比とSiCl_4の流量は蒸着基板配置のための最適位置を決定することにおいて同等に重要な役割を果たしていることを示した。基板の存在は,炉内の温度と組成濃度の分布を変化させる。基板位置を調整SiO_2蓄積のより均一な分布と堆積表面上のOH濃度を持つ最適位置を達成するために効果的な戦略である。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： *最適化 ,  蒸着 ,  乱流 ,  *加水分解 ,  電位 ,  計算モデル ,  シミュレーション ,  *石英ガラス ,  反応機構 ,  流量 ,  反応性
準シソーラス用語： 当量比 ,  粒子形成 ,  数値シミュレーション ,  *高品質 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： シリカガラス ,  火炎加水分解堆積法 ,  計算モデル ,  シミュレーション ,  水素火炎

分類 (2件)： 燃焼一般  (XE04010W) ,  対流・放射熱伝達  (PA02030K)

タイトルに関連する用語 (8件)： 火炎 ,  加水分解 ,  堆積 ,  大型 ,  高品質 ,  溶融石英ガラス ,  設計 ,  最適化