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J-GLOBAL ID：201702225179177116   整理番号：17A1857315

ルブレン薄膜の成長と安定性の研究【JST・京大機械翻訳】

Growth and Stability Properties of Rubrene Thin Films

著者 (8件)： Zhang Yuting (長春工業大学 化学工程学院,吉林 長春 130012;長春理工大学 光電工程学院,吉林 長春 130022) ,  Wang Zhuo (吉林省産品質量監督検験院,吉林 長春,130000) ,  Sun Yang (長春工業大学 化学工程学院,吉林 長春,130012) ,  Yan Chuang (長春工業大学 化学工程学院,吉林 長春,130012) ,  Yin Li (長春工業大学 化学工程学院,吉林 長春,130012) ,  Sun Lijing (長春工業大学 化学工程学院,吉林 長春,130012) ,  Li Zhanguo (長春理工大学 光電工程学院,吉林 長春,130022) ,  Wang Lijuan (長春工業大学 化学工程学院,吉林 長春,130012)
資料名： Faguang Xuebao  (Faguang Xuebao)
巻： 38  号： 8  ページ： 1047-1055  発行年： 2017年 
JST資料番号： W1380A  ISSN： 1000-7032  CODEN： FAXUEW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： 原子間力顕微鏡を用いて、シリカ基板上のルブレン薄膜の成長と安定性を研究した。比較的低い蒸着速度では,低い基板温度では,ルブレン分子は十分な拡散時間を持ち,薄膜の横方向成長を助け,連続性と均一性の良い薄膜を形成した。高速蒸着と高い基板温度により、ルブレン薄膜を縦方向成長モードに転換させ、団粒状島を形成させた。横方向に成長したルブレン薄膜は焼なましと空気中で準安定特性を示し、アニーリング温度の上昇と空気中の放置時間の延長に従って、ルブレン分子は自発的に質量輸送を行い、縦方向に転移し、団粒状島に変化した。シリカ界面におけるルブレン薄膜の成長と準安定機構モデルを得た。研究結果により、ルブレン分子とシリカ界面の間の作用力はルブレン分子間の作用力より小さいことが証明された。Data from Wanfang. Translated by JST【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 団粒 ,  界面 ,  原子間力顕微鏡 ,  高速度 ,  基板温度 ,  蒸着 ,  物質移動 ,  *薄膜 ,  焼なまし ,  保持時間 ,  二酸化ケイ素
準シソーラス用語： 横方向成長 ,  蒸着速度 ,  石英基板 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： rubrene ,  deposition rate ,  substrate temperature ,  annealing ,  stability

分類 (1件)： 半導体薄膜  (BK14040E)

物質索引 (1件)： ルブレン

タイトルに関連する用語 (5件)： ルブレン ,  薄膜 ,  成長 ,  安定性 ,  研究