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J-GLOBAL ID：201702225605041990   整理番号：17A0883366

ポリ(2,6-ジメチル-1,4-フェニレンオキシド)モデル化合物の異常な光酸化経路【Powered by NICT】

An unusual photo-oxidation pathway for a poly(2,6-dimethyl-1,4-phenylene oxide) model compound

著者 (1件)： Pickett James E. (GE Global Research, 1 Research Circle, Niskayuna, New York, 12309)
資料名： Journal of Polymer Science. Part A. Polymer Chemistry  (Journal of Polymer Science. Part A. Polymer Chemistry)
巻： 55  号： 13  ページ： 2221-2226  発行年： 2017年 
JST資料番号： C0337C  ISSN： 0887-624X  CODEN： JPLCAT  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 長波長UV光化学はポリ(2,6-ジメチル-1,4-フェニレンオキシド)のモデル化合物の検討した。酸素の非存在下でUVA,340蛍光ランプを用いた>290nmの波長で2,6 ジメチル フェノールのフェニル封止二量体の照射は27日後に検出可能な生成物を与えなかった。酸化生成物への非常に低い転化率は,酸素の存在下で見られたが,溶媒は水素原子をabstractable容易にた溶媒は,ベンジルメチル基に添加した生成物への約20%の転化率は好気性条件下で起きた。酸化の第一段階として酸素によるベンジル水素の容易な,可逆的抽象化を含む機構を提案した。形成されていることがヒドロペルオキシルラジカルは溶媒の2°と3°炭素から水素原子を引き抜くことができ,これらのラジカルは,ベンジルラジカルと結合して溶媒付加物を生成することができる。Copyright 2017 Wiley Publishing Japan K.K. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： *モデル化合物 ,  転化率 ,  酸素 ,  *光酸化 ,  蛍光ランプ ,  水素 ,  二量体 ,  紫外線 ,  波長 ,  ラジカル ,  芳香族ケトン ,  フェノール類
準シソーラス用語： メチル基 ,  水素原子 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (6件)： フリーラジカル ,  水素引抜 ,  機構 ,  photolysis ,  光酸化 ,  三重項酸素

分類 (3件)： 重合触媒,重合開始剤  (CG04070V) ,  単独重合  (CG04020S) ,  共重合  (CG04030D)

物質索引 (3件)： ベンジルラジカル ,  ベンジル ,  フェノール

タイトルに関連する用語 (4件)： ジメチル ,  モデル化合物 ,  光酸化 ,  経路