文献

J-GLOBAL ID：201702225890086538   整理番号：17A0820225

Si量子ドットにおける可視発光の波長制御:2種類の極性溶媒を用いたHSQポリマーの合成とその焼成

著者 (5件)： 寺田詩歩 (広島大 理) ,  XIN Yunzi (広島大 大学院) ,  齋藤健一 (広島大 理) ,  齋藤健一 (広島大 大学院) ,  齋藤健一 (広島大 自然セ)
資料名： 日本化学会春季年会講演予稿集(CD-ROM)
巻： 97th  ページ： ROMBUNNO.3B5-33  発行年： 2017年03月03日 
JST資料番号： S0493B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： HSQ(水素シルセスキオキサン)ポリマーを,メタノールとトリクロロシラン,水を反応させ,ゾル-ゲル法により合成した。メタノールの量を変えることで,HSQポリマーの硬さや形態が大きく変化した。これらHSQポリマーを前駆体とし,1100°Cの高温で焼成,続いてHFエッチング,表面化学修飾を行い,Si量子ドットを作製した。その結果,前駆体ポリマー合成時のメタノールの量により,Si量子ドットの発光波長が可視から近赤外領域で大きく変化した。(著者抄録)

シソーラス用語： 化学合成 ,  *量子ドット ,  *ケイ素 ,  *有機ケイ素化合物 ,  *重合体 ,  *ゾル-ゲル法 ,  *多段処理 ,  塩化ケイ素 ,  脂肪族アルコール ,  水 ,  焼成 ,  エッチング ,  化学修飾 ,  アルケン ,  *可視発光スペクトル
準シソーラス用語： トリクロロシラン ,  水素シルセスキオキサン

分類 (2件)： 原子・分子のクラスタ  (BH09030O) ,  光物性一般  (BM08010A)

物質索引 (2件)： 1-ドデセン ,  メタノール

タイトルに関連する用語 (6件)： Si ,  量子ドット ,  波長制御 ,  極性溶媒 ,  ポリマー ,  焼成