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J-GLOBAL ID:201702226026291119   整理番号:17A1088363

導波路部品製造における光損失最適化

Optimization of optical losses in waveguide component manufacturing
著者 (5件):
資料名:
巻: 10109  ページ: 1010904.1-1010904.9  発行年: 2017年 
JST資料番号: D0943A  ISSN: 0277-786X  CODEN: PSISDG  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 短報  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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データセンタでの光インターコネクト利用が増加し,ポリマ導波路は有望な候補である。本文は,波長850nm光インターコネクト用のマルチモードポリマ導波路を屈折率分布型ポリマ導波路に基づき開発し,性能を最適化した。光導波路の製造に用いたスピンコーティングとドクターブレード法を詳述した。OM4ファイバと導波路間の結合損失と交差損失などを光学解析で評価し,波長850nmで0.04dB/cmの伝送損失を達成し,Telecordiaの高温試験や,リフロー組み立て試験も満した。平面交差損失は1個所当たり0.02dB,50μm光ファイバとの結合損失は1.4dB未満であった。
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分類 (3件):
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光通信方式・機器  ,  光導波路,光ファイバ,繊維光学  ,  固体デバイス製造技術一般 
タイトルに関連する用語 (3件):
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