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J-GLOBAL ID:201702226124333129   整理番号:17A1067578

感光性基板上のダンマルワニスのレーザ除去に対する構造学的および光化学的修飾を評価するための非線形イメージング顕微鏡【Powered by NICT】

Nonlinear imaging microscopy for assessing structural and photochemical modifications upon laser removal of dammar varnish on photosensitive substrates
著者 (9件):
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巻: 19  号: 34  ページ: 22836-22843  発行年: 2017年 
JST資料番号: A0271C  ISSN: 1463-9076  CODEN: PPCPFQ  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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多光子励起蛍光(MPEF)と第三高調波発生(THG)の非線形光学顕微鏡(NLM)法は本研究で組み合わせた感光性基板に適用したダマールワニス層の紫外(UV)パルスレーザ除去により起こることを形態学的および光化学的修飾の型と程度をマイクロメートル分解能での深さの関数として特性化した。UV光照射により蛍光を発する強く,芳香族化合物1,4-ジ[2-(5-フェニルオキサゾリル)]ベンゼン,光増感剤をドープした合成高分子ポリメタクリル酸メチルの層上の後者構成されている。ワニス被覆の部分的または全除去のための数レーザ条件のナノ秒,ピコ秒およびフェムト秒範囲,すなわち異なる波長(266nm,248nm,213nm)およびパルス持続時間,調べた。最も外側のワニス層のレーザアブレーションにおけるMPEF信号の変化は,ワニスのまたは感光性下層の光化学修飾,レーザアブレーションパラメータ,すなわち,波長とパルス幅の依存性をsignpostに成功した。同様に,THG信号は層境界の存在とワニスコーティングの厚さのレーザアブレーションによる還元を示している。得られたMPEFとTHGデータを光学顕微鏡で形態観察と選択されたレーザ照射条件でレーザアブレーション前後の試料のレーザ誘起蛍光とマイクロRamanスペクトルの測定により補完した。これら非破壊NLMイメージング技術により得られた結果は,レーザアブレーションによる誘導される現象を理解し,下地層に最小の形態学的および化学的修飾とワニスの制御された除去を保証する最良の運転条件を決定するために役立つ。本研究は絵画のUVパルスレーザクリーニングへの直接適用であり,非破壊のための新しい評価ツールとしてNLMの可能性を示し,レーザ洗浄プロセスのオンライン監視。Copyright 2017 Royal Society of Chemistry All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】
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分類 (2件):
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JSTが定めた文献の分類名称とコードです
塗料の性質  ,  光化学一般 

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