ステレオリソグラフィー合成とレプリカ成形:太陽光発電用の超疎水性高分子素子への道【Powered by NICT】

Credi Caterina; Pintossi Diego; Bianchi Claudia L.; Levi Marinella; Griffini Gianmarco; Turri Stefano

文献

J-GLOBAL ID：201702226212526307 整理番号：17A1546642

ステレオリソグラフィー合成とレプリカ成形:太陽光発電用の超疎水性高分子素子への道【Powered by NICT】

Combining stereolithography and replica molding: On the way to superhydrophobic polymeric devices for photovoltaics

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高度な検索・分析はJDreamⅢで {{ this.onShowJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=17A1546642&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=A0495B") }}

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資料名：
巻： 133 ページ： 143-153 発行年： 2017年
JST資料番号： A0495B ISSN： 0264-1275 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：イギリス (GBR) 言語：英語 (EN)

ステレオリソグラフィー(SL)を組み合わせて超疎水性バルクデバイスの直接製造のためのソフトlithography戦略を報告した。微細組織マスタを急速にSLによる試作とペルフルオロシランで不動態化した。このような表面処理は,レプリカ成形によるバルク高分子マイクロパターン化構造を得るために利用最終的に負のマイクロ構造のポリジメチルシロキサン鋳型の欠陥作製を可能にした。概念説明の証明として,この方法は優れた自己浄化特性を示す超疎水性発光太陽集光器(LSC)の最初の例を実現する太陽光発電の分野で採用されている。戦略に従って,新しい色素をドープしたアクリル酸混合物を金型に存在する中空微細構造の完全な濡れを確保するために開発し,最適化した。光開始剤濃度を調整する賢明と調整されたダブルステップUV照射プロセスを実行することによって,完全なUV-光重合は標的試料の大きな厚さにもかかわらず達成された。娘レプリカ並びにそれらの超撥水性に及ぼす元のSLプリント特徴の高忠実度複製を実証することに成功した。得られた超疎水性LSCの性能は,デバイス寸法を変化させて調べ,そして最先端のシステムと同等であることが分かった。本研究を,簡単なやり方で微細構造化超疎水性高分子バルクデバイスを再現性良く作製する多用途ツールとしての複製技術と組み合わせた高分解能SL印刷の可能性を実証した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

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機械的性質 , 特殊成形

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