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J-GLOBAL ID：201702226682767436   整理番号：17A1501539

多成分光学表面上の選択的スパッタリング【Powered by NICT】

Preferential sputtering on multicomponent optical surfaces

著者 (4件)： Liang Xiao (School of Mechanical Engineering, Shijiazhuang Tiedao University, Shijiazhuang, Hebei 050043, China) ,  Wang Xuewei (Department of Precision Machinery and Precision Instrumentation, University of Science and Technology of China, Hefei, Anhui 230026, China) ,  Guo Jingbo (School of Mechanical Engineering, Shijiazhuang Tiedao University, Shijiazhuang, Hebei 050043, China) ,  Wang Xiang (Department of Precision Machinery and Precision Instrumentation, University of Science and Technology of China, Hefei, Anhui 230026, China)
資料名： Nuclear Instruments & Methods in Physics Research. Section B. Beam Interactions with Materials and Atoms  (Nuclear Instruments & Methods in Physics Research. Section B. Beam Interactions with Materials and Atoms)
巻： 410  ページ： 153-157  発行年： 2017年 
JST資料番号： H0899A  ISSN： 0168-583X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究では,イオンビーム加工多成分光学系中の選択的スパッタリングの効果を報告した。二元連続体モデルは,表面選択的スパッタリング機構を調査するために開発する。,スパッタリング,Fick拡散,Mullins拡散,イオン粘性流および弾道学ドリフトのような,多様なメカニズムは,表面進展を特性化するために統合した。数ナノメータの粗さを持つ超平滑SiO_2基板上にモデルシミュレーションと実験を行い,比較した。両方の結果は,表面組成はイオンビームスパッタリング中に優先的に再編成する一貫した傾向を示した。イオンが衝突すると,表面Si濃度は,初期スパッタリング表面の32.5%から約50%まで増加し,その後低下し,最終的には41±1.5%で安定化し,実験とモデルシミュレーションした。さらに,優先スパッタリングは表面反射率(>45%)を促進する表面粗さ(<2%)を変化させなかった。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： イオンビーム加工 ,  イオンビームスパッタリング ,  粘性流 ,  光学系 ,  再編成 ,  弾道学 ,  ケイ素 ,  ドリフト ,  *スパッタリング ,  イオン ,  キャラクタリゼーション
準シソーラス用語： 表面組成 ,  ナノメータ ,  連続体モデル ,  *光学表面 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： 優先スパッタリング ,  多成分 ,  表面組成 ,  再編成 ,  Reflectivity

分類 (1件)： スパッタリング  (BK16110U)

タイトルに関連する用語 (2件)： 光学表面 ,  スパッタリング