文献

J-GLOBAL ID：201702226707713730   整理番号：17A0928418

後方照明CMOSイメージセンサ技術における誘電体亜波長回折格子を用いる可視波長色フィルタ

Visible Wavelength Color Filters Using Dielectric Subwavelength Gratings for Backside-Illuminated CMOS Image Sensor Technologies

著者 (13件)： HORIE Yu (California Inst. of Technol., California, USA) ,  HAN Seunghoon (Samsung Advanced Inst. of Technol., Gyeonggi-do, KOR) ,  LEE Jeong-Yub (Samsung Advanced Inst. of Technol., Gyeonggi-do, KOR) ,  KIM Jaekwan (Samsung Advanced Inst. of Technol., Gyeonggi-do, KOR) ,  KIM Yongsung (Samsung Advanced Inst. of Technol., Gyeonggi-do, KOR) ,  ARBABI Amir (California Inst. of Technol., California, USA) ,  SHIN Changgyun (Samsung Advanced Inst. of Technol., Gyeonggi-do, KOR) ,  SHI Lilong (Samsung Electronics, California, USA) ,  ARBABI Ehsan (California Inst. of Technol., California, USA) ,  KAMALI Seyedeh Mahsa (California Inst. of Technol., California, USA) ,  LEE Hong-Seok (Samsung Advanced Inst. of Technol., Gyeonggi-do, KOR) ,  HWANG Sungwoo (Samsung Advanced Inst. of Technol., Gyeonggi-do, KOR) ,  FARAON Andrei (California Inst. of Technol., California, USA)
資料名： Nano Letters  (Nano Letters)
巻： 17  号： 5  ページ： 3159-3164  発行年： 2017年05月 
JST資料番号： W1332A  ISSN： 1530-6984  CODEN： NALEFD  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： CMOSイメージセンサのカラーフィルタとして誘電体の亜波長回折格子を検討した。ケイ素光ダイオードアレイ層上に酸化ケイ素スペーサ(115nm)を挟んでナノホールパターン(赤色,90nm径/250nm周期;緑色,140/180nm;青色,240/270nm)を形成したポリシリコン膜を形成した。光ダイオードからの反射と格子層の光の干渉を考慮してスペクトルシミュレーションを行ない,透過率60~80%を推定した。SN比は低照度で28.4,高照度で39.9が可能である。CIE色度ダイヤグラム上に範囲を示した。走査電子顕微鏡,透過スペクトルによりキャラクタリゼーションを行った。入射角±20°で影響は見られなかった。本技術によればμmレベのピクセルサイズが可能と予測した。

シソーラス用語： *イメージセンサ ,  *カラーフィルタ ,  *フォトダイオードアレイ検出器 ,  酸化ケイ素 ,  ポリシリコン ,  アレイ ,  赤 ,  青 ,  緑 ,  回折格子 ,  光干渉 ,  光反射 ,  透過率 ,  スペクトルシミュレーション ,  CIELAB表色系 ,  走査電子顕微鏡 ,  スペクトル
準シソーラス用語： *CMOSイメージセンサ ,  ダイオードアレイ検出器 ,  ナノホールアレイ ,  光透過スペクトル ,  青色 ,  赤色 ,  緑色

分類 (3件)： 光の散乱,回折,干渉  (BD03030M) ,  光導電素子  (NC03083X) ,  固-固界面  (CB12060M)

タイトルに関連する用語 (6件)： 照明 ,  CMOSイメージセンサ ,  誘電体 ,  波長 ,  回折格子 ,  色フィルタ