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J-GLOBAL ID：201702227155358857   整理番号：17A0634863

パルスレーザアブレーションで作製した発光性の非晶質炭化ケイ素超微細ナノ粒子

Luminescent amorphous silicon carbide ultrafine nanoparticles fabricated by pulsed-laser ablation

著者 (7件)： ZHU Jun (Yangzhou Univ., Yangzhou, CHN) ,  ZHU Jun (Nanjing Univ., Nanjing, CHN) ,  HU Shan (Yangzhou Univ., Yangzhou, CHN) ,  WANG Wei (Yangzhou Univ., Yangzhou, CHN) ,  XIA Wei-wei (Yangzhou Univ., Yangzhou, CHN) ,  CHEN Hai-tao (Yangzhou Univ., Yangzhou, CHN) ,  CHEN Xiao-bing (Yangzhou Univ., Yangzhou, CHN)
資料名： Applied Physics. A. Materials Science & Processing  (Applied Physics. A. Materials Science & Processing)
巻： 123  号： 4  ページ： 244,1-5  発行年： 2017年04月 
JST資料番号： D0256C  ISSN： 0947-8396  CODEN： APHYCC  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 表面研磨3C-SiC多結晶ターゲットを水中に置き,その表面をKrFレーザ(波長248nm)パルスで照射するパルスレーザアブレーションにより非晶質SiC超微細ナノ粒子を作製した。直径10±2nmのほぼ球形のナノ粒子が水中によく分散している。HRTEMやSAEDパターンはナノ粒子が非晶質であることを示した。FTIRスペクトルにはナノ粒子表面に結合した-H基と-OH基のモードがあり,表面が親水性であることを示している。吸収スペクトルから求めた直接および間接バンドギャップはそれぞれ5.5eVと2.3eVで,バルク3C-SiCに対する報告値とほぼ一致した。また320nmの励起で中心が430nmの強い発光を示した。

シソーラス用語： *レーザアブレーション ,  *非晶質 ,  *炭化ケイ素 ,  *超微粒子 ,  *ナノ粒子 ,  *水中 ,  エキシマレーザ ,  *赤外吸収スペクトル ,  ヒドロキシ基 ,  *親水性 ,  *光ルミネセンス ,  可視発光スペクトル ,  *光学ギャップ ,  単分散系
準シソーラス用語： *パルスレーザアブレーション ,  *3C-SiC ,  KrFレーザ ,  FTIRスペクトル

分類 (3件)： レーザ照射・損傷  (BK16040S) ,  コロイド化学一般  (CB11010C) ,  半導体のルミネセンス  (BM08092S)

タイトルに関連する用語 (6件)： パルスレーザアブレーション ,  作製 ,  非晶質 ,  炭化ケイ素 ,  超微細 ,  ナノ粒子