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J-GLOBAL ID:201702227425438320   整理番号:17A1645783

SOI等価を用いた高K三金属二重ゲートSON TFETの性能解析と比較研究【Powered by NICT】

Performance analysis and comparative study of high-K triple metal double gate SON TFET with SOI equivalent
著者 (2件):
資料名:
巻: 2017  号: DevIC  ページ: 159-163  発行年: 2017年 
JST資料番号: W2441A  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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高K SON三重金属二重ゲートTFETの性能の比較解析をSOI三重金属二重ゲートTFETを用いて行った。表面電位,電場,およびドレイン電流の解析モデルは高K SON三重金属二重ゲートTFETのために開発され,MATLABでシミュレートした。SILVACO ATLASを用いて検証した。高K SON三重金属はSOI等価より電流に対する改善を示した。Copyright 2017 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】
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分類 (1件):
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トランジスタ 

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