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J-GLOBAL ID：201702227626179248   整理番号：17A0545934

パルスレーザー蒸着モリブデン薄膜の微細構造とエレクトロクロミック特性に及ぼすアブレーション速度の影響

Effect of Ablation Rate on the Microstructure and Electrochromic Properties of Pulsed-Laser-Deposited Molybdenum Oxide Thin Films

著者 (11件)： SANTHOSH S. (CSIR-Central Electrochemical Res. Inst., Karaikudi, IND) ,  SANTHOSH S. (Acad. Scientific and Innovative Res. (AcSIR), Karaikudi, IND) ,  MATHANKUMAR M. (CSIR-Central Electrochemical Res. Inst., Karaikudi, IND) ,  MATHANKUMAR M. (Acad. Scientific and Innovative Res. (AcSIR), Karaikudi, IND) ,  CHANDRASEKARAN S. Selva (CSIR-Central Electrochemical Res. Inst., Karaikudi, IND) ,  CHANDRASEKARAN S. Selva (Acad. Scientific and Innovative Res. (AcSIR), Karaikudi, IND) ,  KUMAR A. K. Nanda (CSIR-Central Electrochemical Res. Inst., Karaikudi, IND) ,  MURUGAN P. (CSIR-Central Electrochemical Res. Inst., Karaikudi, IND) ,  MURUGAN P. (Acad. Scientific and Innovative Res. (AcSIR), Karaikudi, IND) ,  SUBRAMANIAN B. (CSIR-Central Electrochemical Res. Inst., Karaikudi, IND) ,  SUBRAMANIAN B. (Acad. Scientific and Innovative Res. (AcSIR), Karaikudi, IND)
資料名： Langmuir  (Langmuir)
巻： 33  号： 1  ページ： 19-33  発行年： 2017年01月10日 
JST資料番号： A0231B  ISSN： 0743-7463  CODEN： LANGD5  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 酸素欠損α-MoO₃薄膜を,2,4,6,8,10Hzの種々の繰返し速度でKrFエキシマー系パルスレーザー蒸着により作製した。2と10Hzの2つの極端な膜のエレクトロクロミック特性を比較した。繰返し速度が低いほど結晶特性が高くなることを観察した。過酷な酸素空孔は,Mo-O結合ネットワークに八面体歪を生成した。繰返し速度の減少は,間接バンドギャップから直接バンドギャップへの転移を引き起こした。MO-2Hz膜は高い可逆性と安定性を示したが,MO-10Hz膜は良好な彩色を示した。Moの酸化状態の好適な分率は,MO-10Hz膜のばあいには良好な彩色をもたらすが,酸素空孔の数が多くなると安定性はMO-2Hz膜より低下する。

シソーラス用語： *パルスレーザ蒸着 ,  *酸化モリブデン ,  *微細構造 ,  *エレクトロクロミズム ,  *アブレーション ,  液晶ディスプレイ ,  発光ダイオード ,  Braun管 ,  空格子点 ,  バンドギャップ ,  発色
準シソーラス用語： エレクトロクロミック特性 ,  LED ,  陰極線管 ,  酸素空孔 ,  間接バンドギャップ ,  直接バンドギャップ ,  彩色

分類 (2件)： 金属酸化物及び金属カルコゲン化物の結晶構造  (BK07020Y) ,  その他の固体デバイス  (NC03150A)

タイトルに関連する用語 (6件)： パルスレーザー蒸着 ,  モリブデン ,  薄膜 ,  微細構造 ,  エレクトロクロミック特性 ,  アブレーション