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J-GLOBAL ID：201702228001029064   整理番号：17A0452554

酸化PPF表面での直接SN_1反応【Powered by NICT】

Direct SN₁ reaction at oxidized PPF surfaces

著者 (5件)： Cortes Meritxell (Institut des Sciences Chimiques de Rennes, Equipe MaCSE, Universite de Rennes 1, UMR CNRS no 6226, Campus de Beaulieu, 35042 Rennes, France) ,  Smida Hassiba (Institut des Sciences Chimiques de Rennes, Equipe MaCSE, Universite de Rennes 1, UMR CNRS no 6226, Campus de Beaulieu, 35042 Rennes, France) ,  Meriadec Cristelle (Institut de Physique de Rennes, Universite de Rennes 1, UMR CNRS no 6251, Campus de Beaulieu, 35042 Rennes, France) ,  Barriere Frederic (Institut des Sciences Chimiques de Rennes, Equipe MaCSE, Universite de Rennes 1, UMR CNRS no 6226, Campus de Beaulieu, 35042 Rennes, France) ,  Lagrost Corinne (Institut des Sciences Chimiques de Rennes, Equipe MaCSE, Universite de Rennes 1, UMR CNRS no 6226, Campus de Beaulieu, 35042 Rennes, France)
資料名： Electrochemistry Communications  (Electrochemistry Communications)
巻： 75  ページ： 48-51  発行年： 2017年 
JST資料番号： W1133A  ISSN： 1388-2481  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 比較目的のために,二シリーズの熱分解フォトレジスト膜(PPF)基板のは還元条件,すなわちH_2の存在下および非存在下でなしで作製した。電気化学的およびX線光電子分光法分析は,H_2非存在下で調製したPPF基板は還元条件下で調製したPPFよりも,ヒドロキシル基,多くの表面酸素官能基を持つことを示した。これら酸化PPF試料は(準)単分子層として表面にフェロセニル基を共有結合性に結合するSN_1反応に関与することができる。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 電気化学 ,  *酸化 ,  X線光電子分光法 ,  単分子層 ,  熱分解 ,  共有結合 ,  フォトレジスト ,  酸素 ,  ヒドロキシ基
準シソーラス用語： ヒドロキシル基 ,  官能基 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： 表面官能化 ,  PPF ,  SN_1反応 ,  単原子層

分類 (2件)： 二次電池  (YB04030K) ,  電気化学反応  (CB07050F)

タイトルに関連する用語 (1件)： 酸化