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J-GLOBAL ID:201702228035350125   整理番号:17A1187421

UO_2薄膜の溶解に及ぼす核分裂エネルギーXeイオン照射の影響【Powered by NICT】

The effect of fission-energy Xe ion irradiation on dissolution of UO2 thin films
著者 (10件):
資料名:
巻: 721  ページ: 586-592  発行年: 2017年 
JST資料番号: D0083A  ISSN: 0925-8388  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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本研究の目的は,水中のUO_2薄膜の溶解に及ぼす核分裂片損傷の影響を研究することであった。この目的のために,LSAT(Al_10La_3O_51Sr_14Ta_7)基板上にUO_2の薄膜は4.8×10~15ions/cm~2のフルエンスで92MeV~129Xe~23+イオンによって生成されたおよび照射された核分裂損傷をシミュレートし,核燃料内で発生する化学的混合を誘導した。溶解実験は窒素雰囲気(N_2における200 900O_2ppm)で行っUO_2マトリックスの溶解に及ぼす誘起された照射損傷と混合の影響を研究することであった。照射試料は,溶解したウランの量の減少を示し,対応する非照射試料と比較した。これは基板要素を持つUO_2膜の照射誘起化学混合,UO_2マトリックスの安定性をもたらしたに起因し,その耐水性を増加させた。二次相も溶解実験後UO_2膜の表面に観察された。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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配位化合物の安定度定数 
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