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J-GLOBAL ID：201702228241584920   整理番号：17A0154425

MgO(100)基板上のエピタキシャルSn_xFe_3-xO₄薄膜の作製

著者 (5件)： 荒木真人 (北大 大学院) ,  梶田博樹 (北大 大学院) ,  柳瀬隆 (北大 大学院) ,  島田敏宏 (北大 大学院) ,  長浜太郎 (北大 大学院)
資料名： 応用物理学会北海道支部/日本光学会北海道支部合同学術講演会講演予稿集  (応用物理学会北海道支部学術講演会・日本光学会北海道支部講演予稿集)
巻： 52nd-13th  ページ： 23  発行年： 2017年01月07日 
JST資料番号： L5918A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *酸化マグネシウム ,  *酸化鉄 ,  *スズ化合物 ,  添加物効果 ,  *フェライト ,  スピネル型結晶 ,  化合物半導体 ,  化学組成 ,  MBE成長 ,  X線回折 ,  電子顕微鏡観察 ,  RHEED ,  *薄膜成長 ,  エネルギー分散X線分光分析 ,  結晶面 ,  単結晶 ,  計測 ,  Hall効果 ,  電気抵抗 ,  電気伝導率 ,  ホッピング伝導 ,  磁気ヒステリシス ,  磁化 ,  磁性半導体 ,  基板 ,  *スピネル型フェライト ,  van der Pauw法 ,  面内磁化 ,  透過型電子顕微鏡法
準シソーラス用語： 透過型電子顕微鏡観察 ,  EDS【分光分析】

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (4件)： MgO ,  エピタキシャル ,  薄膜 ,  作製