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J-GLOBAL ID：201702228308504826   整理番号：17A0470294

制御されたバンドギャップエネルギーを持つ酸化タングステン水和物膜の電気化学的調製【Powered by NICT】

Electrochemical preparation of tungsten oxide hydrate films with controlled bandgap energy

著者 (4件)： Nishiyama Kentaro (Department of Mechanical Eng., Toyohashi University of Technology, 1-1 Hibarigaoka, Tenpaku, Toyohashi, Aichi 441-8580, Japan) ,  Sasano Junji (Department of Mechanical Eng., Toyohashi University of Technology, 1-1 Hibarigaoka, Tenpaku, Toyohashi, Aichi 441-8580, Japan) ,  Yokoyama Seiji (Department of Mechanical Eng., Toyohashi University of Technology, 1-1 Hibarigaoka, Tenpaku, Toyohashi, Aichi 441-8580, Japan) ,  Izaki Masanobu (Department of Mechanical Eng., Toyohashi University of Technology, 1-1 Hibarigaoka, Tenpaku, Toyohashi, Aichi 441-8580, Japan)
資料名： Thin Solid Films  (Thin Solid Films)
巻： 625  ページ： 29-34  発行年： 2017年 
JST資料番号： B0899A  ISSN： 0040-6090  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： WO_3H_2OとWO_3(H_2O)0.33の酸化タングステン水和物膜は水性0.01 0.5mol/LWO_4~溶液におけるアノード電着により導電性ガラス基板上に作製した。構造及び光学特性をX線光電子分光法,X線回折,SEM観察,光吸収測定,および光電気化学測定により行った。0.01 0.09mol/LWO_4~溶液で得られた,矩形形状の大きなWO_3H_2O結晶粒からなる膜は約2.5eVのバンドギャップエネルギーを有し,,0.05 0.5mol/LWO_4~溶液で得られた粒状WO_3(H_2O)0.33膜は,バンドギャップエネルギー3.3eVを示した。0.01 0.09mol/LWO_4~溶液で調製したWO_3H_2O WO_3(H_2O)0.33混合膜は380 600nmで可視光に対する光応答を示し,2.5eVバンドギャップWO_3H_2Oの存在に起因する。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： X線回折 ,  *酸化タングステン ,  可視光 ,  光吸収 ,  *水和物 ,  *バンドギャップ ,  光学的性質 ,  光電気化学 ,  *電気化学 ,  X線光電子分光法 ,  結晶粒 ,  電着
準シソーラス用語： 導電性ガラス ,  *バンドギャップエネルギー , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： 酸化タングステン水和物 ,  電気化学的析出 ,  バンドギャップエネルギー ,  光電気化学測定 ,  Photocatalyst

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (5件)： バンドギャップエネルギー ,  酸化タングステン ,  水和物 ,  電気化学 ,  調製