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文献
J-GLOBAL ID:201702228367518880   整理番号:17A1642608

高強度光子ビームプロファイルモニタの開発【Powered by NICT】

Development of a high-intensity photon-beam profile monitor
著者 (17件):
資料名:
巻: 2016  号: NSS/MIC/RTSD  ページ: 1-2  発行年: 2016年 
JST資料番号: W2441A  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
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電子光子科学,東北大学,日本研究センターでの高エネルギー光子ビームラインのために開発されたいくつかのビームプロファイルモニタ。金属板における電子-陽電子対に変換光子の位置は,これらのモニタで測定した。電流モニタでは,3mm正方形の断面をもつ16シンチレーションファイバホドスコープの二つの層が位置測定のための採用されている。有効面積は48mm角である。荷電粒子は上流生産される事象は,板の前面に置かれた電荷ベトプラスチックシンチレータを用いた排除されると,対生成事象はプレート背後に配置されたトリガープラスチックシンチレータを同定した。位置は,フィールドプログラマブルゲートアレイを用いた論理回路によって決定される。イベントを処理するための不感時間は十nsであり,高いデータ収集効率は,高強度光子ビーム(約400MHz)に対するこれらの監視装置で実現できる。新規開発モニタでは,シンチレーションファイバホドスコープは多重陽極金属包装光電子増倍管で置き換えることを計画している。電子-陽電子対による光電面で生成された二次放出電子は,位置測定に利用されている。本論文では,開発したモニタの概要と発展途上モニタの展望について議論した。Copyright 2017 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】
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分類 (1件):
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集積回路一般 
タイトルに関連する用語 (4件):
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