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J-GLOBAL ID:201702228436875845   整理番号:17A1744806

回転円板表面の薄い液膜の定常状態流動特性の数値シミュレーション【JST・京大機械翻訳】

Numerical simulation of stable flow dynamics of viscous film on spinning disk surface
著者 (5件):
資料名:
巻: 68  号:ページ: 2321-2327  発行年: 2017年 
JST資料番号: E0215B  ISSN: 0438-1157  CODEN: HUKHAI  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 中国 (CHN)  言語: 中国語 (ZH)
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回転円板表面の薄い膜流は回転反応器、造粒及び分子蒸留などの化学工業領域に広く存在しており、その流動特性は造粒、反応及び熱物質移動に対して重要な影響を持っている。定常状態薄膜の流動特性の理論モデルを確立し、実験データと数値シミュレーション結果を比較し、等価Froude数Fr、次元1の特徴厚さと長さ比εと鋳込サイズriが薄膜厚さ分布に与える影響を研究し、水の同期と半径のモデルを導出し、実験で検証した。結果は以下を示した。等価Froude数Frは薄膜厚さ分布に明らかな影響を与えない。無次元1εと鋳込サイズriは水の発生の有無の決定条件であり、εを増加するか、riを小さくすることは水の出現に役立ち、水の半径はr=0.85に安定している。平均半径方向速度は典型的な三分割特性を示し,鋳込サイズを減少させることにより,鋳込領域の範囲が増加し,加速領域が著しく縮小し,薄膜が明らかに加速することなく同期領域に入ったが,同期領域半径はr=1.53に維持された。研究結果は,回転円板反応器および遠心分離器の設計および最適化のための理論的および応用的基礎を提供した。Data from Wanfang. Translated by JST【JST・京大機械翻訳】
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, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (2件):
分類
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膜流,液滴,気泡,キャビテーション  ,  熱交換器,冷却器 
タイトルに関連する用語 (5件):
タイトルに関連する用語
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