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J-GLOBAL ID：201702228686400849   整理番号：17A1925703

プラズマ密度による放電プラズマの極端紫外光源への影響に関する研究【JST・京大機械翻訳】

Effect of Plasma Density on Discharge Produced Plasma Extreme Ultraviolet Source

著者 (4件)： Xu Qiang (東北林業大学理学院,黒竜江 哈爾浜,150040) ,  Zhao Yongpeng (哈爾浜工業大学可調諧激光技術国家級重点実験室,黒竜江 哈爾浜,150001) ,  Wang Qi (哈爾浜工業大学可調諧激光技術国家級重点実験室,黒竜江 哈爾浜,150001) ,  Yang Yongtao (東北林業大学理学院,黒竜江 哈爾浜,150040)
資料名： Guangpuxue yu Guangpu Fenxi  (Guangpuxue yu Guangpu Fenxi)
巻： 37  号： 8  ページ： 2560-2563  発行年： 2017年 
JST資料番号： C2093A  ISSN： 1000-0593  CODEN： GYGFED  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： プラズマ状態は極紫外線光源の電力と変換効率を決定する最も重要な要素の一つであり、理論と実験研究におけるXeガス流量が放電プラズマの極紫外線光源の放射スペクトルとプラズマ状態に与える影響は、光源の操作条件を最適化する上で重要な意義がある。理論的には,衝突-放射モデルを用いて,非局所的熱力学的平衡条件下で,異なるイオン化度におけるイオンの存在度分布を,電子温度およびイオン密度の変化によって,シミュレーションした。Xe8+~Xe11+イオンの4d-5p遷移スペクトル線強度の電子温度による変化傾向を導出した。実験では、毛細管の放電メカニズムを用いて、ロラン円分光計を用いて、異なるプラズマ密度の条件下で、放電プラズマの極端紫外スペクトルの変化を測定、分析し、Xeガス流量がプラズマ状態に与える影響を分析した。理論と実験結果を示した。同じ電流条件の下で,プラズマ収縮の平均電子温度は,Xeガス流量の増加とともに減少した。4d-5pの遷移に対して、低電離度イオンと高電離度イオンのスペクトル線強度の比は温度の増加につれて減少した。電流が28kA,Xeのガス流量が0.4sccm(cm3min-1)のとき,プラズマのZピンチの平均電子温度は29eV付近にあり,Xeガスの量が増加すると,イオン密度と最適電子温度の影響を受ける。Xe10+イオンの4d-5p遷移の13.5nm(2%帯域幅)の放射線強度の最適化を実現するXe気流量は0.3~0.4 sccmの間にある。Data from Wanfang. Translated by JST【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： イオン ,  最適化 ,  スペクトル ,  電子温度 ,  放射強度 ,  極端紫外線 ,  電流 ,  *放電 ,  キセノン ,  Zピンチ ,  *プラズマ ,  イオン密度 ,  スペクトル線強度
準シソーラス用語： ガス流量 ,  *放電プラズマ , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： Discharge produced plasma ,  EUV emission ,  Capillary discharge ,  EUV source

分類 (1件)： 光源,照明器具  (NB12020F)

タイトルに関連する用語 (4件)： プラズマ密度 ,  放電プラズマ ,  極端紫外光源 ,  研究