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J-GLOBAL ID：201702228782642905   整理番号：17A0445150

電気化学HClO_4/Pt(111)界面の性質【Powered by NICT】

Nature of the electrochemical HClO₄/Pt(111) interface

著者 (5件)： Liu Shan Ping (School of Materials Science and Engineering, Jilin University, 130022, Changchun, China) ,  Zhao Ming (School of Materials Science and Engineering, Jilin University, 130022, Changchun, China) ,  Gao Wang (School of Materials Science and Engineering, Jilin University, 130022, Changchun, China) ,  Jacob Timo (Institut fuer Elektrochemie, Universitaet Ulm, Albert-Einstein-Allee 47, D-89081 Ulm, Germany) ,  Jiang Qing (School of Materials Science and Engineering, Jilin University, 130022, Changchun, China)
資料名： Applied Surface Science  (Applied Surface Science)
巻： 400  ページ： 426-433  発行年： 2017年 
JST資料番号： B0707B  ISSN： 0169-4332  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 電気化学の分野における電気化学的HClO_4/Pt(111)界面,残念ながら未だ議論されているを理解することが重要である。この界面の基本的性質を明らかにするために,密度汎関数理論(DFT)を用いてHClO_4/Pt(111)界面での可能な化学種の共吸着を研究した。著者らの計算は,HClO_4*はPt(111)表面上のClO_4*に解離し,H_3O*とH_2O*分子と共吸着したClO_4*の吸着層に導く可能性が最も高いことを示した。興味深いことに,これらの共吸着H_3O*分子は高度に局在化した正電荷状態とヒドロニウムイオンの性質を示した。一方,このClO_4*共吸着した吸着層の安定性はH_2O*+H_3O*二層のそれとほぼ同じである。この競合はPt(111)上の周期的ClO_4*+H_2O*+H_3O*吸着層の形成を妨げ,実験が見られ電気化学条件におけるClO_4*の弱い吸着をもたらすであろう。添加では,基板に垂直な方向に沿って静電ポテンシャルは異なる界面構造のための明確に区別できるピークを示した。これらの結果は,この基本的な電気化学的界面への深い洞察を提供し,将来の実験研究のための有望な手がかりを提供する。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： *界面 ,  *白金 ,  ヒドロニウムイオン ,  密度汎関数法 ,  化学種 ,  *電気化学 ,  共吸着
準シソーラス用語： 実験研究 ,  界面構造 ,  静電ポテンシャル ,  二層 ,  正電荷 ,  局在化 ,  吸着層 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： Electrochemsitry ,  電極電解質界面 ,  密度汎関数理論 ,  過塩素酸 ,  静電ポテンシャル

分類 (3件)： 電極過程  (CB07040U) ,  物理的手法を用いた吸着の研究  (CB12043P) ,  防食  (WB03040M)

タイトルに関連する用語 (4件)： 電気化学 ,  Pt ,  界面 ,  性質