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J-GLOBAL ID：201702228993514770   整理番号：17A2001242

1-ブチル-3-メチルイミダゾリウム臭化臭化銀イオン液体媒体中での銅上への銀のセメンテーション【Powered by NICT】

Silver cementation on copper in 1-butyl-3-methylimidazolium bromide-silver bromide ionic liquid medium

著者 (2件)： Grishina E.P. (G.A. Krestov Institute of Solution Chemistry, Russian Academy of Sciences (ISC RAS), Akademicheskaya St., 1, Ivanovo 153045, Russia) ,  Ramenskaya L.M. (G.A. Krestov Institute of Solution Chemistry, Russian Academy of Sciences (ISC RAS), Akademicheskaya St., 1, Ivanovo 153045, Russia)
資料名： Journal of Molecular Liquids  (Journal of Molecular Liquids)
巻： 248  ページ： 963-971  発行年： 2017年 
JST資料番号： B0924A  ISSN： 0167-7322  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 1-ブチル-3-メチルイミダゾリウムブロミド臭化銀イオン液体(BMImBr AgBr)の無溶媒媒体中での銅基板上への銀の置換析出を研究した。BMImBr AgBr中のAg(I)/Cuセメンテーションシステムを電気化学的,重量測定,光学顕微鏡,SEMおよびEDX法により調べた。実験データは,銅基板上への銀のナノサイズ多孔質層の堆積過程は二段階一次反応速度式に従ったによって進行することを示した。K_1=5.1×10~ 5s~ 1K,2=5.3×10~ 4秒~ 1の速度定数は二段階それぞれに対して計算した。セメンテーションはアノード反応速度の活性化制御下で進行した。定常領域では陽極反応の制御度は0.83であることが分かった。EIS法の使用により,当初からセメンテーションの第二段階への遷移は陽極と陰極反応における電荷移動の抵抗の減少に起因することが分かった。無溶媒BMImBr AgBrイオン性液体中での厚さ10μmまでのナノサイズ多孔質銀層と銅基板への良好な接着を得るのに成功できることを示した。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 反応速度 ,  *臭化銀 ,  *銅 ,  レート方程式 ,  電荷移動 ,  電気化学 ,  重量測定 ,  多孔性 ,  光学顕微鏡 ,  *イオン液体 ,  *銀 ,  *媒質
準シソーラス用語： 速度定数 ,  銅基板 ,  無溶媒反応 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (6件)： 銀 ,  金属被覆 ,  銅 ,  溶融塩 ,  速度論的パラメータ ,  EIS

分類 (1件)： 腐食  (WB03030B)

タイトルに関連する用語 (6件)： 臭化銀 ,  イオン ,  液体媒体 ,  銅 ,  銀 ,  セメンテーション