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J-GLOBAL ID：201702229026147915   整理番号：17A1956067

OsH₃Cl(PPh₃)₃からポリヒドリドオスミウムアリールシリル錯体の合成および反応性

Synthesis and Reactivities of Polyhydrido Osmium Arylsilyl Complexes Prepared from OsH₃Cl(PPh₃)₃

著者 (9件)： HE Guomei (Hong Kong Univ. Sci. and Technol., Hong Kong, CHN) ,  HE Guomei (Xiamen Univ., Xiamen, CHN) ,  WU Linlin (Hong Kong Univ. Sci. and Technol., Hong Kong, CHN) ,  BAI Wei (Hong Kong Univ. Sci. and Technol., Hong Kong, CHN) ,  CHEN Jiangxi (Xiamen Univ., Xiamen, CHN) ,  SUNG Herman H. Y. (Hong Kong Univ. Sci. and Technol., Hong Kong, CHN) ,  WILLIAMS Ian D. (Hong Kong Univ. Sci. and Technol., Hong Kong, CHN) ,  LIN Zhenyang (Hong Kong Univ. Sci. and Technol., Hong Kong, CHN) ,  JIA Guochen (Hong Kong Univ. Sci. and Technol., Hong Kong, CHN)
資料名： Organometallics  (Organometallics)
巻： 36  号： 19  ページ： 3729-3738  発行年： 2017年10月09日 
JST資料番号： E0965A  ISSN： 0276-7333  CODEN： ORGND7  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： OsH₃Cl(PPh₃)₃(1)と当量のPh₂SiH₂の反応により,モノシリル錯体OsH₃(SiClPh₂)(PPh₃)₃(2)およびビスシリル錯体OsH₄(SiClPh₂)(SiHPh₂)(PPh₃)₂(3)が生成した。(1)と過剰のPhSiH₃の反応により弱いSi...H結合を含むビスシリルテトラヒドリド錯体OsH₄(SiClHPh)(SiH₂Ph)(PPh₃)₂(4)が生成した。錯体(3)はPPh₃またはアセトニトリルとの反応により選択的にPh₂SiH₂が脱離した。¹H NMR,²⁹Si{¹H}NMR,³¹P{¹H}NMRによりキャラクタリゼーションを行った。X線回折により結晶構造を決定した。B3LYPレベルの密度汎関数法計算によりSi-H結合の酸化的付加およびH/Cl交換によりシリレン中間体を経由する反応機構を推定し,配位子の脱離性の序列を求めた。

シソーラス用語： *オスミウム錯体 ,  *ヒドリド錯体 ,  *ケイ素化合物 ,  ホスフィン錯体 ,  クロロ錯体 ,  陽子磁気共鳴 ,  ケイ素29NMR ,  リン31NMR ,  二次元NMR ,  X線回折 ,  結晶構造 ,  密度汎関数法 ,  付加反応 ,  *配位子交換 ,  シリレン ,  反応機構 ,  錯体生成 ,  ポテンシャルエネルギー面 ,  エネルギー準位 ,  芳香族化合物 ,  有機リン化合物
準シソーラス用語： *シリル錯体 ,  シリレン錯体 ,  酸化的付加

分類 (3件)： 白金族元素の錯体  (CE01100E) ,  有機けい素化合物  (CF08030C) ,  遷移金属元素(鉄族元素を除く)の錯体の結晶構造  (BK09030X)

物質索引 (4件)： ジフェニルシラン ,  トリフェニルホスフィン ,  フェニルシラン ,  クロロジフェニルシラン

タイトルに関連する用語 (2件)： 錯体 ,  反応性