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J-GLOBAL ID：201702229333456483   整理番号：17A0666002

水再利用のためのUV/過酸化水素,UV/persulfateとUV/free塩素による微量有機汚染物質の分解の機構的理解【Powered by NICT】

A mechanistic understanding of the degradation of trace organic contaminants by UV/hydrogen peroxide, UV/persulfate and UV/free chlorine for water reuse

著者 (4件)： Li Wei (Department of Chemical and Environmental Engineering, University of California, Riverside, CA, 92521 USA. [e-mail]) ,  Jain Tushar ,  Ishida Kenneth ,  Liu Haizhou
資料名： Environmental Science: Water Research & Technology  (Environmental Science: Water Research & Technology)
巻： 3  号： 1  ページ： 128-138  発行年： 2017年 
JST資料番号： W2464A  ISSN： 2053-1419  CODEN： ESWRAR  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 気候変動と人口増加は淡水資源のアベイラビリティに増加する課題を提起している。紫外ベース先進酸化プロセス(UV/AOPs)は,廃水再利用による飲料水供給を増加させる有望な水再利用技術である。本研究では,六種類の代表的な微量有機汚染物質の分解に関する組合せ実験研究と速度モデル化に基づいて,すなわち,UV/過酸化水素(H_2O_2),UV/過硫酸塩(S_2O_8~2-)およびUV/塩素(HOCl),三UV/AOPsにおける汚染物質の分解と反応性種生成の基本的機構を検討した。ヒドロキシルラジカル(HO),硫酸ラジカル(SO_4~ ),および塩素原子(Cl)を含む反応性ラジカルの形成と分布を調べた。結果は,汚染物質の処理効率は一般的に水の再利用に利用処理トレインステップに関連した化学的条件下で次UV/S_2O_8~2 >UV/H_2O_2>UV/HOClに従うことを示した。HOの生成はUV/H_2O_2に重要であったが,両SO_4~およびHOたUV/S_2O_8~2CO_3~-UV/HOClで重要である。三UV/AOPsの中で,UV/S_2O_8~IIの処理効率はpH,塩化物,および無機炭素に最も敏感であった。実験とモデリング手法は多様な化学条件下での水再利用のためのUV/AOPシステムの設計と最適化のためのガイダンスを提供した。Copyright 2017 Royal Society of Chemistry All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： 塩化物 ,  *塩素 ,  *汚染物質 ,  *水の再利用 ,  ラジカル ,  淡水 ,  モデリング ,  反応性 ,  *過酸化水素 ,  ペルオキソ硫酸塩 ,  最適化 ,  ヒドロキシルラジカル
準シソーラス用語： 処理効率 ,  硫酸ラジカル ,  AOP【酸化法】 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： その他の汚染原因物質  (SB05040W) ,  下水,廃水の物理的処理  (SC03040L)

タイトルに関連する用語 (6件)： 水再利用 ,  過酸化水素 ,  塩素 ,  有機汚染物質 ,  分解 ,  理解