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J-GLOBAL ID：201702229708299238   整理番号：17A1924674

末端DNA足場と性質研究により形成されたDNAヒドロゲル【JST・京大機械翻訳】

資料名： Chinese Journal of Polymer Science  (Chinese Journal of Polymer Science)
巻： 35  号： 10  ページ： 1307-1314  発行年： 2017年 
JST資料番号： C2566A  ISSN： 0256-7679  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： シンガポール (SGP)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 近年,DNA超分子ヒドロゲルはそれらの注入可能性,生体適合性,応答性および自己修復特性により多くの注目を集めている。本研究において,両末端に2つのシトシン(C)リッチ配列を持つ一つの二重鎖を含む線形DNA煉瓦を設計した。この煉瓦は最初にpH8条件下で二本鎖を形成することができる。pHを5に調節した後に,Cリッチ配列は分子間i-モチーフ構造を形成する傾向があり,それは直線的DNA分子を結合して相互に固定された環状構造を形成し,DNAヒドロゲルを生成する。分子の二本鎖部分の長さと曲げ曲率を調整することにより,DNAヒドロゲルの性質を調整するために,ヒドロゲル構造の基本単位を変えることができる。Data from Wanfang. Translated by JST【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 超分子 ,  *ヒドロゲル ,  応答特性 ,  *DNA【核酸】 ,  煉瓦 ,  環状構造 ,  曲率 ,  線形性 ,  生体適合性
準シソーラス用語： 自己修復 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 核酸一般  (EB04010U)

タイトルに関連する用語 (5件)： DNA ,  足場 ,  性質 ,  研究 ,  ヒドロゲル