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J-GLOBAL ID:201702229789325173   整理番号:17A0469173

紫外励起トリフルオロアセチルアセトンおよびヘキサフルオロアセチルアセトンの光化学ふっ素化methylfuranonesを形成するふっ化水素光脱離の量子収率と速度定数【Powered by NICT】

Photochemistry of UV-excited trifluoroacetylacetone and hexafluoroacetylacetone II: Quantum yield and rate constants of hydrogen fluoride photoelimination forming fluorinated methylfuranones
著者 (4件):
資料名:
巻: 672  ページ: 112-118  発行年: 2017年 
JST資料番号: B0824A  ISSN: 0009-2614  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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紫外光で励起した気相1,1,1-トリフルオロアセチルアセトン(TFAA)と1,1,1,5,5,5-ヘキサフルオロアセチルアセトン(H FAA)の光化学をHFとdifluoromethylfuranoneまたはペンタフルオロメチルフラノンを産生する有意な光脱離チャネルをそれぞれ含んでいる。は実験的に決定された相対量子収率の衝突自己消光を報告し,0.27±0.03および0.33±0.04μs~ 1の速度定数,それぞれH FAAとTFAAを決定した。観察された消光と一致した強い衝突モデル。データは,この除去は両方の場合における低圧での一次光化学的運命であることを示唆する。TFAA速度定数はH FAAのそれよりも大きく,H FAAとして多くのフッ素原子としての半分を有するTFAAにもかかわらず。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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光化学反応 
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