回転ターゲットと平面ターゲットによるスパッタ金属膜の耐食性に関する研究【Powered by NICT】

Ma Weijie; Hu Haifeng; Ding Xianlin; Chen Qicheng; Zhang Ming; Guo Zongjie; Shao Xibin

文献

J-GLOBAL ID：201702229910502302 整理番号：17A1241393

回転ターゲットと平面ターゲットによるスパッタ金属膜の耐食性に関する研究【Powered by NICT】

Research on corrosion resistance of metal films sputtered by rotating target and planar target

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資料名：
巻： 25 号： 6 ページ： 391-396 発行年： 2017年
JST資料番号： B0996B ISSN： 1071-0922 資料種別：会議録 (C)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

種々のスパッタ条件でMoNb/AlNd/MoNb膜の腐食抵抗はG6回転ターゲットスパッタ装置について検討した。結果はスパッタ電力の増加と厚さの増加と共に,トップMoNbは,粗い柱状結晶を形成する傾向があり,最初に,金属薄膜の腐食抵抗が増加し,スパッタ電力と金属厚さの増加と共に減少することを示した。スパッタ温度が上昇すると,トップMoNbは粗大粒を形成する傾向があるが,膜の耐食性は不良である。結果も目標速度の増加に伴って,トップMoNb膜はルーズになる,その貧弱な耐食性能力のために保護的役割を果たすことは困難であることを放出する。同じ条件下で,平面ターゲット膜のスパッタした高密度;結果として,トップMoNb層が腐食から内部AlNd層を保護することができる。Copyright 2017 Wiley Publishing Japan K.K. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

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