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J-GLOBAL ID：201702230049449320   整理番号：17A1365912

リアルタイム透過X線回折によるSi(111)-7×7上のビスマス薄膜成長と界面構造の観察

著者 (1件)： 田尻寛男 (高輝度光科学研究セ)
資料名： 日本物理学会講演概要集(CD-ROM)  (日本物理学会春季大会講演概要集(CD-ROM))
巻： 72  号： 2  ページ： ROMBUNNO.24aJ17-5  発行年： 2017年09月25日 
JST資料番号： S0671C  ISSN： 2189-079X  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *薄膜成長 ,  *ビスマス ,  基板 ,  ケイ素 ,  単結晶 ,  結晶方位 ,  X線回折 ,  時間 ,  実験 ,  *表面構造 ,  周期構造
準シソーラス用語： リアルタイム ,  in situ実験 ,  *界面構造

分類 (1件)： 金属の表面構造  (BK15020P)

タイトルに関連する用語 (8件)： リアルタイム ,  透過X線 ,  回折 ,  Si ,  ビスマス ,  薄膜成長 ,  界面構造 ,  観察