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J-GLOBAL ID：201702230659706478   整理番号：17A0407399

水素化物照射および非照射薄膜マグネシウムのその場脱離:光学的性質との関係【Powered by NICT】

In-situ desorption of magnesium hydride irradiated and non-irradiated thin films: Relation to optical properties

著者 (9件)： Raskovic-Lovre Zeljka (Vinca Institute of Nuclear Sciences, University of Belgrade, POB 522, 11001 Belgrade, Serbia) ,  Kurko Sandra (Vinca Institute of Nuclear Sciences, University of Belgrade, POB 522, 11001 Belgrade, Serbia) ,  Ivanovic Nenad (Vinca Institute of Nuclear Sciences, University of Belgrade, POB 522, 11001 Belgrade, Serbia) ,  Fernandez Jose Francisco (Departamento de Fisica de Materiales C-IV, Facultad de Ciencias, Universidad Autonoma de Madrid, 28049 Madrid, Spain) ,  Ares Jose- Ramon (Departamento de Fisica de Materiales C-IV, Facultad de Ciencias, Universidad Autonoma de Madrid, 28049 Madrid, Spain) ,  Sturm Saso (Jozef Stefan Institute, Department for Nanostructured Materials, Jamova 39, 1000 Ljubljana, Slovenia) ,  Mongstad Trygve (Institute for Energy Technology, Instituttveien 18, NO-2007 Kjeller, Norway) ,  Novakovic Nikola (Vinca Institute of Nuclear Sciences, University of Belgrade, POB 522, 11001 Belgrade, Serbia) ,  Novakovic Jasmina Grbovic (Vinca Institute of Nuclear Sciences, University of Belgrade, POB 522, 11001 Belgrade, Serbia)
資料名： Journal of Alloys and Compounds  (Journal of Alloys and Compounds)
巻： 695  ページ： 2381-2388  発行年： 2017年 
JST資料番号： D0083A  ISSN： 0925-8388  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： MgH_2薄膜からの水素脱離中に起こる過程を,アルゴンイオン照射により改質した調製したままの試料で調べた。照射を用いて,深さ分布をもつ明確な欠陥を生成した。サイズ,形状,及びMgH_2薄膜からの水素脱離中に形成されるMg核の濃度は,誘起された欠陥の特性と分布に依存することを示した。調製したままの試料ではMg核の形状は球形であり,一方,照射試料では,高度に不規則であった。試料の色の変化は,水素脱着中およびMg核の生成前に観察した。DFT計算は,試料の光学的性質の観察された変動は,MgH_2電子構造の変化-MgH_2エネルギーギャップ内のH-空孔バンドの出現により説明できることを示した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： *マグネシウム ,  *薄膜 ,  密度汎関数法 ,  アルゴン ,  核の形状 ,  *脱着 ,  電子構造 ,  イオン照射 ,  変色 ,  *光学的性質 ,  エネルギーギャップ ,  深さ分布 ,  *水素化物
準シソーラス用語： 水素脱着 ,  水素脱離 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： 金属水素化物 ,  薄膜 ,  水素脱着挙動 ,  光学的性質 ,  DFT

分類 (1件)： その他の金属組織学  (WB01040Y)

タイトルに関連する用語 (5件)： 水素化物 ,  薄膜 ,  マグネシウム ,  脱離 ,  光学的性質