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J-GLOBAL ID:201702230771746794   整理番号:17A0470338

光源と粒子加速器のためのナローギャップ挿入装置と小口径チェンバのNEGコーティング蒸着と特性化【Powered by NICT】

NEG coating deposition and characterisation of narrow-gap insertion devices and small-diameter chambers for light sources and particle accelerators
著者 (7件):
資料名:
巻: 138  ページ: 157-164  発行年: 2017年 
JST資料番号: E0347A  ISSN: 0042-207X  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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NEG被覆技術は粒子加速器コミュニティにおける非常に一般的になっている,ビーム管のポンピング効率を著しく増加させるが,表面ガス放出の低減に非常に効果的な手段を提供する。NEG被覆の広範な使用は,次世代の機械の観点から,長と小口径管(4mmまで)は,高光度と低エミッタンスを達成するために予想されるに特に適している。このような厳しい要求を注意深く検討すべきである,多くの技術的問題は,被覆蒸着の出現両方として,この種のナローギャップビームパイプを扱うキャラクタリゼーションした。ナローギャップ挿入装置のためのNEGコーティングの使用は,過去十年にわたって成長した着実にこの分野における現在の研究開発活動と将来の展望のレビューを提示し,小断面,チャンバー上に堆積した膜の特性化に使用した分析技術の概観した。これらはEDSにより作製したSEM形態学的検査,化学組成分析と厚さプロファイリングとCOのゲッタ膜の収着容量の測定を含んでいる。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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分類 (1件):
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真空技術 

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