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J-GLOBAL ID：201702231007926605   整理番号：17A1090466

SEM輪郭解析の枠組

Framework for SEM contour analysis

著者 (5件)： SCHNEIDER L. (STMicroelectronics, Crolles, FRA) ,  SCHNEIDER L. (LETI, CEA, Grenoble, FRA) ,  FARYS V. (STMicroelectronics, Crolles, FRA) ,  SERRET E. (STMicroelectronics, Crolles, FRA) ,  FENOUILLET-BERANGER C. (LETI, CEA, Grenoble, FRA)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 10145  号： Pt.1  ページ： 1014513.1-1014513.13  発行年： 2017年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： CD-SEM測定法はマイクロエレクトロニクス計測に広く用いられている標準の方法である。しかし,二次元パターンの解析には限界がある。本論文では,新しい計測手段としてCD-SEM法の拡張版であるトポロジカル骨格を提案した。この方法はあらゆる種類の構造(特に二次元構造)に対して高速で信頼性が高く,堅牢であることが証明されている。SEM画像上の雑音を低減するための新しい雑音フィルタとそれに続く効率的なトポグラフィー識別子を紹介した。また,SEM画像内のトポグラフィー検出のための簡単なアルゴリズムを提案した。一連の画像を解析する場合,系統樹解析は大きな画像バッチ内の類似プリントの範疇を識別する高速な方法を提供する。

シソーラス用語： *走査電子顕微鏡 ,  画像分析 ,  *解析 ,  *雑音低減 ,  画像 ,  系統樹 ,  リソグラフィー ,  半導体プロセス ,  回路パターン形成 ,  トポグラフィー【形態】
準シソーラス用語： *CD-SEM【顕微鏡】 ,  *パターン解析 ,  系統樹解析 ,  電子顕微鏡画像

分類 (1件)： 固体デバイス計測・試験・信頼性  (NC03040G)

タイトルに関連する用語 (4件)： SEM ,  輪郭 ,  解析 ,  枠組