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J-GLOBAL ID：201702231825009996   整理番号：17A1380912

組織工学応用のためのグロー放電プラズマ支援重合を用いたポリプロピレンフィルムの表面上のSiOx被覆層の蒸着に及ぼすプロセスパラメータの影響【Powered by NICT】

Effect of processing parameters on the deposition of SiOx-like coatings on the surface of polypropylene films using glow discharge plasma assisted polymerization for tissue engineering applications

著者 (12件)： Pandiyaraj K. Navaneetha (Surface Engineering Laboratory, Department of Physics, Sri Shakthi Institute of Engineering and Technology, L&T by pass, Chinniyam Palayam (post), Coimbatore 641062, India) ,  Arun Kumar A. (Surface Engineering Laboratory, Department of Physics, Sri Shakthi Institute of Engineering and Technology, L&T by pass, Chinniyam Palayam (post), Coimbatore 641062, India) ,  Ramkumar M.C. (Surface Engineering Laboratory, Department of Physics, Sri Shakthi Institute of Engineering and Technology, L&T by pass, Chinniyam Palayam (post), Coimbatore 641062, India) ,  Kumar S. Uday (Nanobiotechnology Laboratory, Centre for Nanotechnology, Indian Institute of Technology Roorkee, Roorkee, Uttarakhand 247667, India) ,  Gopinath P. (Nanobiotechnology Laboratory, Centre for Nanotechnology, Indian Institute of Technology Roorkee, Roorkee, Uttarakhand 247667, India) ,  Cools Pieter (Research Unit Plasma Technology (RUPT), Department of Applied Physics, Faculty of Engineering and Architecture, Ghent University, Sint-Pietersnieuwstraat 41 B4, 9000 Gent, Belgium) ,  De Geyter N. (Research Unit Plasma Technology (RUPT), Department of Applied Physics, Faculty of Engineering and Architecture, Ghent University, Sint-Pietersnieuwstraat 41 B4, 9000 Gent, Belgium) ,  Morent R. (Research Unit Plasma Technology (RUPT), Department of Applied Physics, Faculty of Engineering and Architecture, Ghent University, Sint-Pietersnieuwstraat 41 B4, 9000 Gent, Belgium) ,  Bah M. (Department of Physics and Astronomy, Department of Materials Science and Engineering, University of Delaware, 208 Dupont Hall, Newark, United States) ,  Shah S. Ismat (Department of Physics and Astronomy, Department of Materials Science and Engineering, University of Delaware, 208 Dupont Hall, Newark, United States) ,  Su Pi-Guey (Department of Chemistry, Chinese Culture University, Taipei 111, Taiwan) ,  Deshmukh R.R. (Department of Physics, Institute of Chemical Technology, Matunga, Mumbai 400 019, India)
資料名： Vacuum  (Vacuum)
巻： 143  ページ： 412-422  発行年： 2017年 
JST資料番号： E0347A  ISSN： 0042-207X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究でヘキサメチルジシロキサン(HMDSO)を用いて,Ar+O_2グロー放電を用いたポリプロピレン(PP)膜の表面に及ぼすSiO_xのような皮膜を堆積した。放電電位と析出時間は可能な組織工学応用のための親水性,酸化状態と表面均一性のような種々のSiO_x被覆特性を最適化するために系統的に変化させた。X線光電子分光法(XPS),原子間力顕微鏡(A FM)と接触角はこの変化を解析するために採用した。SiOx膜の細胞適合性研究は,in vitro分析により,細胞接着と増殖に及ぼす表面特性の影響を調べるためにNIH-3T3(マウス胚線維芽細胞)細胞を使用した。SiO_x膜は高度に親水性であることが分かり,接触角と表面エネルギーの結果に基づいた。XPSはPPフィルムの表面の極性官能基を含むSiと酸素の種々の酸化状態の効率的な取込を確認した。全体として,比較的滑らかな表面トポグラフィーを適用したプラズマパラメータに依存して,明確な差異を観察した。in vitro分析は細胞適合性としてSiO_x膜を特性化し,非毒性改良された接着およびNIH-3T3線維芽細胞の増殖,すなわち。全体として,開発した膜は可能な組織工学応用のための高い可能性を示すことが分かった。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： *ケイ素 ,  in vitro実験 ,  *被覆層 ,  表面エネルギー ,  原子間力顕微鏡 ,  X線光電子スペクトル ,  細胞接着 ,  *被覆 ,  *プロセスパラメータ ,  接触角 ,  表面性状 ,  *グロー放電 ,  線維芽細胞 ,  親水性
準シソーラス用語： 細胞適合性 ,  酸化状態 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： グロー放電プラズマ ,  PPフィルム ,  SiOx ,  表面分析 ,  細胞適合性

分類 (5件)： 高分子固体のその他の性質  (CG02025L) ,  薄膜一般  (BK14010X) ,  酸化物薄膜  (BK14050P) ,  プラズマ応用  (BJ02110K) ,  医用素材  (GA05040H)

タイトルに関連する用語 (9件)： 組織工学 ,  応用 ,  グロー放電プラズマ ,  支援 ,  重合 ,  ポリプロピレンフィルム ,  被覆層 ,  蒸着 ,  プロセスパラメータ