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J-GLOBAL ID：201702231842739513   整理番号：17A1240678

非線形抵抗率を持つ還元及び表面修飾グラフェン酸化物【Powered by NICT】

Reduced and Surface-Modified Graphene Oxide with Nonlinear Resistivity

著者 (7件)： Wahlander Martin (Department of Fibre and Polymer Technology, School of Chemical Science and Engineering, KTH Royal Institute of Technology, Stockholm, SE-100 44, Sweden) ,  Nilsson Fritjof (Department of Fibre and Polymer Technology, School of Chemical Science and Engineering, KTH Royal Institute of Technology, Stockholm, SE-100 44, Sweden) ,  Andersson Richard L. (Department of Fibre and Polymer Technology, School of Chemical Science and Engineering, KTH Royal Institute of Technology, Stockholm, SE-100 44, Sweden) ,  Carlmark Anna (Department of Fibre and Polymer Technology, School of Chemical Science and Engineering, KTH Royal Institute of Technology, Stockholm, SE-100 44, Sweden) ,  Hillborg Henrik (Department of Fibre and Polymer Technology, School of Chemical Science and Engineering, KTH Royal Institute of Technology, Stockholm, SE-100 44, Sweden) ,  Hillborg Henrik (ABB AB, Corporate Research, Power Technology, Vaesteras, SE-721 78, Sweden) ,  Malmstrom Eva (Department of Fibre and Polymer Technology, School of Chemical Science and Engineering, KTH Royal Institute of Technology, Stockholm, SE-100 44, Sweden)
資料名： Macromolecular Rapid Communications  (Macromolecular Rapid Communications)
巻： 38  号： 16  ページ： null  発行年： 2017年 
JST資料番号： D0314B  ISSN： 1022-1336  CODEN： MRCOE3  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 場平坦化材料(FGM)は電気部品の重要な領域における電気的故障の確率を低減するために用いられる,非常に重要である。通常,FGMは半導性または導電性粒子を充填した(40vol.%)であった。,重合体-グラフト化還元グラフェン酸化物(rGO)は半結晶性高分子マトリックス中の非常に低い充填率(<2vol%)でパーコレーションネットワークを達成するための充填剤として使用されている:ポリ(エチレン-co-アクリル酸ブチル)(EBA)。様々なシミュレーションモデルを用いて,パーコレーションしきい値およびフレークにフレーク距離を予測するために,実験結果を補完した。rGOの熱安定性のかなりの増加が,表面改質,シランまたはその後の重合のいずれかによりこの後に観察された。ニート及びシラン化rGOとそのトラッピング半結晶性EBAにおける電荷キャリアの非線形DC抵抗率を初めて実証した。グラフトrGOはEBAマトリックス中の分散性を改善し,グラフト長はフレーク距離を制御する(すなわち電荷キャリアホッピング距離)を示した。グラフト長さを適切に選択することによって,抵抗率の大きく,明確な液滴(六年)の10kV mm~ 1とFGMの両方で高抵抗材料が得られ,続いて飽和した。抵抗の非線形低下がグラフト化したrGOの狭いフレーク距離分布に起因した。Copyright 2017 Wiley Publishing Japan K.K. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 準結晶 ,  分散度 ,  熱安定性 ,  導電性 ,  *電気抵抗率 ,  電場 ,  シミュレーションモデル ,  ホッピング伝導 ,  シラン ,  移植片 ,  *表面改質 ,  液滴 ,  フレーク
準シソーラス用語： 電荷キャリア ,  *酸化グラフェン , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： 電場平坦化材料 ,  非線形抵抗率 ,  高分子グラフト化 ,  グラフェン酸化物を減少させる

分類 (1件)： 共重合  (CG04030D)

タイトルに関連する用語 (5件)： 非線形 ,  抵抗率 ,  還元 ,  表面修飾 ,  グラフェン酸化物