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J-GLOBAL ID：201702231966535919   整理番号：17A1721086

LiNbO_3基板上の人工Ni細線の分域構造の制御【Powered by NICT】

Control of Domain Structure in Artificial Ni Wires Fabricated on an LiNbO₃ Substrate

著者 (5件)： Yamaguchi A. (Laboratory of Advanced Science and Technology for Industry, University of Hyogo, Hyogo, Japan) ,  Ohkochi T. (Japan Synchrotron Radiation Research Institute, Hyogo, Japan) ,  Yasui A. (Japan Synchrotron Radiation Research Institute, Hyogo, Japan) ,  Kinoshita T. (Japan Synchrotron Radiation Research Institute, Hyogo, Japan) ,  Yamada K. (Department of Chemistry and Biomolecular Science, Faculty of Engineering, Gifu University, Gifu, Japan)
資料名： IEEE Transactions on Magnetics  (IEEE Transactions on Magnetics)
巻： 53  号： 11  ページ： ROMBUNNO.8108504.1-4  発行年： 2017年 
JST資料番号： A0339B  ISSN： 0018-9464  CODEN： IEMGAQ  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 単結晶LiNbO_3基板上に作製したマイクロスケール多結晶Niワイヤ内の磁気ドメイン構造形成の制御を実証した。SPring-8のBL25SUとBL17SUでのX線磁気円二色性光電子放出電子顕微鏡を用いて分域構造を観察した。シマウマ縞ドメインと通常の単一ドメイン構造の両方を基板上にワイヤの配列の制御におけるNiワイヤ中に形成することができた。結果はpizoelectristic基質からの磁気弾性効果は強く磁化整列に影響し,それらの形状磁気異方性を圧倒することを示唆した。シマウマ縞分域構造の形成は,ワイヤの長軸に垂直な磁気異方性の仮定の下でマイクロ磁気シミュレーションにより定性的に説明できた。著者らの発見は,形状磁気異方性とひずみ誘起異方性の組合せを用いて磁区構造と磁化反転を制御する方法を提供する。Copyright 2017 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： 多結晶 ,  *ニッケル ,  異方性 ,  *分域構造 ,  構造形成 ,  磁区構造 ,  磁気弾性効果 ,  単結晶 ,  *細線 ,  磁気異方性 ,  光電子放出 ,  金属線 ,  磁化反転 ,  磁化
準シソーラス用語： 形状磁気異方性 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (3件)： 磁性材料  (NA04040H) ,  金属の磁気異方性・磁気機械効果  (BM06102S) ,  電子・磁気・光学記録  (NC06020F)

タイトルに関連する用語 (4件)： 人工 ,  Ni ,  細線 ,  分域構造