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J-GLOBAL ID：201702232944444941   整理番号：17A0890992

側鎖結晶性ブロック共重合体の無電解めっき前処理への利用

The Possibility of Application of Side Chain Crystalline Block Co-polymer (SCCBC) for Pre-reforming of Electroless Plating

著者 (4件)： 中野涼子 (福岡大 工) ,  内野智仁 (福岡大 大学院工学研究科) ,  関口博史 (福岡大 工) ,  八尾滋 (福岡大 大学院工学研究科)
資料名： 塗装工学  (Journal of Japan Coating Technology Association)
巻： 52  号： 7  ページ： 212-218  発行年： 2017年07月30日 
JST資料番号： S0871A  ISSN： 0285-3787  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 金属触媒吸着特性を有する「側鎖結晶性ブロック共重合体」による処理が,無電解めっき工程におけるエッチング処理の代替技術として利用可能かどうかを検証した。ポリエチレン基材を用いて実験を行ったところ,1)ニッケルめっきに関しては皮膜応力が大きいため,現時点では均一な膜の保持が難しいこと,2)一方で,皮膜応力が小さい銅を用いた無電解めっきは可能であること,3)多孔膜表面の細孔構造は,細孔径によってはめっきにより閉塞する可能性があること,等が分かった。

シソーラス用語： *無電解めっき ,  ニッケルめっき ,  銅めっき ,  *前処理 ,  表面改質 ,  エッチング ,  ポリエチレン ,  *ブロック共重合体 ,  *結晶性高分子 ,  金属触媒 ,  吸着 ,  薄膜成長 ,  多孔質体 ,  細孔径 ,  プラスチックフィルム ,  高分子膜 ,  化学修飾 ,  金属吸着 ,  微多孔膜 ,  無電解ニッケルめっき
準シソーラス用語： 表面修飾

分類 (1件)： 無電解めっき  (WC08024S)

引用文献 (5件)：

• Y. Yoshikane, T. Nagao, J. Yoshikawa and K. Sato : Proc. of the 115^th Annual Conference of SFSJ, p.71 (2007)
• W. Sommer, K. Wang, N. Brown and J. McCaskie : SUR-FIN Proceedings, p.311 (2007)
• 別所 毅,田代雄彦,杉本将治,本間英夫:エレクトロニクス実装学会誌, 9, p.472(2006)
• 八尾 滋:高分子論文集, 73,2,pp.139-146(2016)
• R. Nakano, H. Sekiguchi and S. Yao : Macromol. Symp., 349, p. 44 (2015)

タイトルに関連する用語 (3件)： 側鎖結晶性ブロック共重合体 ,  無電解めっき ,  前処理