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J-GLOBAL ID：201702233041777657   整理番号：17A1065583

高い光電気化学効率を達成するためのDCマグネトロンスパッタリングにより調製したナノ結晶WO_3-X薄膜の酸素空孔の重要性

The Importance of Oxygen Vacancies in Nanocrystalline WO_3-x Thin Films Prepared by DC Magnetron Sputtering for Achieving High Photoelectrochemical Efficiency

著者 (5件)： JOHANSSON Malin B. (Uppsala Univ., Uppsala, SWE) ,  MATTSSON Andreas (Uppsala Univ., Uppsala, SWE) ,  LINDQUIST Sten-Eric (Uppsala Univ., Uppsala, SWE) ,  NIKLASSON Gunnar A. (Uppsala Univ., Uppsala, SWE) ,  OESTERLUND Lars (Uppsala Univ., Uppsala, SWE)
資料名： Journal of Physical Chemistry C  (Journal of Physical Chemistry C)
巻： 121  号： 13  ページ： 7412-7420  発行年： 2017年04月06日 
JST資料番号： W1877A  ISSN： 1932-7447  CODEN： JPCCCK  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 種々厚さの部分化学量論WO_3-X薄膜を,透明導電性酸化物(FTO)で満たされたガラス基板上に,0₂/Ar雰囲気(比0.43)下で,圧力P_tot=10および30mTorrでスパッタリングした。化学式当たりの酸素欠損バンドギャップ状態の数を,サイクリックボルタンメトリーから推定し,平均値は,10mTorr試料についてはX~0.005であり,30mTorr試料についてはX~0.001であることが判明した。P_tot=30mTorrでスパッタリングした化学量論膜について入射光子電流効率(IPCE)の驚くべき高い値を見出し,2000nmの厚さの膜電極であっても,膜全体に効率的な電荷分離がほとんど起こると結論づけた。

シソーラス用語： *マグネトロンスパッタリング ,  光電気化学 ,  ナノ結晶 ,  *酸化タングステン ,  *薄膜 ,  *空格子点 ,  化合物半導体 ,  基板 ,  電気装置部品 ,  空気 ,  酸素 ,  スパッタリング ,  圧力効果 ,  バンドギャップ ,  サイクリックボルタンメトリー ,  化学組成 ,  電荷分離
準シソーラス用語： DCマグネトロンスパッタリング ,  IPCE ,  ガラス基板 ,  ナノクリスタル ,  圧力依存性 ,  化学量論組成 ,  光電気化学特性 ,  酸化物薄膜 ,  *酸素空孔 ,  透明導電性酸化物

分類 (2件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A) ,  光伝導,光起電力  (BM03050J)

タイトルに関連する用語 (7件)： 光電気化学 ,  DCマグネトロンスパッタリング ,  調製 ,  ナノ結晶 ,  薄膜 ,  酸素空孔 ,  重要性