文献

J-GLOBAL ID：201702233146543344   整理番号：17A1179795

刷り込み磁気Fe_3O_4/HTCC複合ナノ粒子によるAs(III)の効果的かつ選択的吸着【Powered by NICT】

Effective and selective adsorption of As(III) via imprinted magnetic Fe₃O₄/HTCC composite nanoparticles

著者 (5件)： Song Xiaoli (College of Chemistry and Chemical Engineering, Yangzhou University, Yangzhou, 225002, PR China) ,  Li Ling (College of Chemistry and Chemical Engineering, Yangzhou University, Yangzhou, 225002, PR China) ,  Geng Zhirong (State Key Laboratory of Coordination Chemistry, School of Chemistry and Chemical Engineering, Nanjing University, Hankou Road 22, Nanjing 210093, PR China) ,  Zhou Lei (College of Chemistry and Chemical Engineering, Yangzhou University, Yangzhou, 225002, PR China) ,  Ji Lijun (College of Chemistry and Chemical Engineering, Yangzhou University, Yangzhou, 225002, PR China)
資料名： Journal of Environmental Chemical Engineering  (Journal of Environmental Chemical Engineering)
巻： 5  号： 1  ページ： 16-25  発行年： 2017年 
JST資料番号： W2960A  ISSN： 2213-3437  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： (III)刷込磁気Fe_3O_4N (2 ヒドロキシル)プロピル 3 トリメチル アンモニウム キトサン クロリド(HTCC)として複合材料ナノ粒子(As(III)-IMHNPs)をマイクロエマルション法により調製した。As(III)-IMHNPsは5mg/LのAs(III)溶液で得られた11.52mg/gで最大吸着容量はAs(III)の吸着への効率的で選択的であった。As(III)のインプリンティングを用いて,As(III)-IMHNPsの選択性が増加し,As(III)除去に及ぼす競合イオンの影響は大きく減少した。さらに,ナノ粒子は良好な再生性能を示し,As(III)の吸着効率は10回のリサイクル後でさえまだ75%以上であった。As(III)-IMHNPs上へのAs(III)の吸着挙動は擬2次モデル,吸着は化学プロセスにより促進されたことを示したがより良く記述出来た。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 化学プロセス ,  複合材料 ,  *刷込 ,  アンモニウムイオン ,  *ナノ粒子 ,  *磁気 ,  *吸着 ,  キトサン ,  マイクロエマルション ,  リサイクル ,  塩化物
準シソーラス用語： 吸着容量 ,  *選択吸着 ,  *複合ナノ粒子 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： As(III) ,  選択的吸着 ,  インプリントされた磁性ナノ粒子 ,  リサイクル ,  Kinetics

分類 (1件)： 塩基,金属酸化物  (CD01030Z)

タイトルに関連する用語 (4件)： 刷り込み ,  磁気 ,  複合ナノ粒子 ,  選択的吸着