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J-GLOBAL ID：201702233355483611   整理番号：17A1057933

低エネルギー電子を用いた表面の処理【Powered by NICT】

Treatment of surfaces with low-energy electrons

著者 (4件)： Frank L. (Institute of Scientific Instruments of the CAS, v.v.i., Kralovopolska 147, 61264 Brno, Czechia) ,  Mikmekova E. (Institute of Scientific Instruments of the CAS, v.v.i., Kralovopolska 147, 61264 Brno, Czechia) ,  Mikmekova E. (FEI Company, Achtseweg Noord 5, 5651 GG Eindhoven, The Netherlands) ,  Lejeune M. (LPMC - Faculte des Sciences d’Amiens, Universite de Picardie Jules Verne, 33 rue Saint Leu, 80039 Amiens Cedex 2, France)
資料名： Applied Surface Science  (Applied Surface Science)
巻： 407  ページ： 105-108  発行年： 2017年 
JST資料番号： B0707B  ISSN： 0169-4332  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 適当な前駆体からの種々の材料の電子ビーム誘起堆積は,10年以上にわたってナノテクノロジーの確立された分枝を示した。特異的な選択的はその後の技術的ステップのためのマスクを含む種々のナノ構造を成長させるために適用されている前駆体として炭化水素に基づいて炭素沈着であった。研究の面積は自発的に吸着した炭化水素分子からの意図しない電子ビーム誘起炭素沈着が認められた。このプロセスは,従来,超高真空外と試料のその場洗浄なしに真の表面研究を行うことを防止し,電子ビームリソグラフのような他の電子-光学デバイスを邪魔し走査電子顕微鏡実践のための課題となっている。ここでは,十分に照射電子のエネルギーを減らした場合,電子ビーム誘起堆積は超高と標準高真空中の炭化水素の脱着と表面の究極的な精製を引き起こす電子ビーム誘起放出に変換できることを示した。グラフェン試料を用いた一連の実験を用いて,電子ビーム誘起脱離の基本的な特徴と無損傷洗浄のための電子エネルギーの最適化をもたらすことをRaman分光法を用いて可能な放射線損傷チェックの結果を示した。ここで記述した炭素汚染防止法をナノテクノロジー応用のための真空系のイメージングと実質的に減少需要の非常に増強された表面感度への道を開くものである。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 炭素 ,  リソグラフィー ,  ナノテクノロジー ,  画像処理 ,  グラフェン ,  沈着 ,  Raman分光法 ,  光学素子 ,  脱着 ,  *電子ビーム ,  前駆体 ,  走査電子顕微鏡 ,  炭化水素 ,  超高真空
準シソーラス用語： 電子ビーム誘起堆積 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： 低エネルギー電子 ,  電子ビーム誘起放出 ,  グラフェン ,  表面の究極の洗浄

分類 (4件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A) ,  レーザ照射・損傷  (BK16040S) ,  固-液界面  (CB12050B) ,  有機化合物の薄膜  (BK14070L)

タイトルに関連する用語 (1件)： エネルギー電子