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J-GLOBAL ID：201702233409888475   整理番号：17A0527024

Znに対するNiのさまざまな比におけるNi-Znγ-黄銅相中のバルクおよび表面原子配置の決定

Determination of Bulk and Surface Atomic Arrangement in Ni-Zn γ-Brass Phase at Different Ni to Zn Ratios

著者 (7件)： SPANJERS Charles S. (Pennsylvania State Univ., Pennsylvania, USA) ,  DASGUPTA Anish (Pennsylvania State Univ., Pennsylvania, USA) ,  KIRKHAM Melanie (Oak Ridge National Lab., Tennessee, USA) ,  BURGER Blake A. (Pennsylvania State Univ., Pennsylvania, USA) ,  KUMAR Gaurav (Pennsylvania State Univ., Pennsylvania, USA) ,  JANIK Michael J. (Pennsylvania State Univ., Pennsylvania, USA) ,  RIOUX Robert M. (Pennsylvania State Univ., Pennsylvania, USA)
資料名： Chemistry of Materials  (Chemistry of Materials)
巻： 29  号： 2  ページ： 504-512  発行年： 2017年01月24日 
JST資料番号： T0893A  ISSN： 0897-4756  CODEN： CMATEX  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Ni-Zn合金中のγ-黄銅相におけるNiによるZnの置換位置の同定を,Ni含有量15.4%以上から19.2%(Ni₁₀Zn₄₂)の範囲で中性子散乱を用いて行った。Ni含有量が15.4%以上では,γ-黄銅の八面体位のZn原子がNiで置き換えられNi-Ni-Ni三量体が生成する。DFT計算を行った結果もγ-黄銅単位格子中の過剰Niの最適位置に関する中性子散乱の結果を支持した。プローブ触媒反応としてH-D交換反応およびエチレンの水素化を選び,表面上に存在するNi三量体が触媒活性に及ぼす影響を調べた。その結果,触媒活性はNi含有量とは関係が薄いことがわかった。DFT計算の結果が示すように,三量体を含む表面はエネルギー的に不利であるためこのような結果がもたらされると解釈した。

シソーラス用語： *ニッケル ,  *亜鉛 ,  合金 ,  *黄銅 ,  *表面構造 ,  *中性子散乱 ,  密度汎関数法 ,  水素化 ,  触媒活性 ,  ニッケル合金 ,  亜鉛合金 ,  同位体交換 ,  アルケン
準シソーラス用語： 原子配置 ,  密度汎関数計算 ,  H/D交換

分類 (3件)： 中性子回折法  (BK01060A) ,  触媒反応一般  (CB06080F) ,  金属の表面構造  (BK15020P)

物質索引 (1件)： エチレン

タイトルに関連する用語 (6件)： Zn ,  Ni ,  比 ,  黄銅 ,  バルク ,  原子配置