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J-GLOBAL ID:201702233585225296   整理番号:17A0449363

単分散ビスマスナノ粒子修飾グラファイト窒化炭素:強化された可視光応答光触媒NO除去と反応経路【Powered by NICT】

Monodisperse bismuth nanoparticles decorated graphitic carbon nitride: Enhanced visible-light-response photocatalytic NO removal and reaction pathway
著者 (7件):
資料名:
巻: 205  ページ: 532-540  発行年: 2017年 
JST資料番号: W0375A  ISSN: 0926-3373  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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単分散ビスマスnanoparticles(ビNP)で修飾された黒鉛状窒化炭素(g C_3N_4)光触媒への容易なアプローチ,および可視光照射下での連続ガス流中のppbレベルのNOの除去に高い効率を報告した。光触媒は有機コロイド溶液中のBi NPsのサイズ制御可能な合成とg C_3N_4へのその後の集合を経て調製した。Bi NPsの取り込みは,Bi g C_3N_4ヘテロ接合(ヘテロ接合効果)とそれらの表面プラズモン共鳴効果(SPR効果)の構築,のg C_3N_4における光励起電子/正孔の分離を促進することができるによるg C_3N_4の光触媒活性を著しく高めることができた。さらに,Bi NPのサイズを調整するヘテロ接合密度の精密な制御とSPRの強度を可能にし,このようにして光触媒反応への各効果の寄与の同定と最適化。12nm Bi NPで修飾されたg C_3N_4は同じ条件下で60.8%,小さいかまたは大きいBi NP修飾g C_3N_4と裸g C_3N_4(38.6%)のそれよりはるかに高いの例外的なNO除去効率を達成することができる。本研究では,金属NP半導体光触媒,多くの他の大気汚染物質の浄化のための効率的で費用対効果に優れた光触媒システムの設計に一般化できるの相乗的ヘテロ接合とSPR効果を調整するためのNPサイズ制御戦略を明らかにした。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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分類 (1件):
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光化学反応 

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