文献

J-GLOBAL ID：201702234564121114   整理番号：17A0754139

RFマグネトロンスパッタリングにより堆積したCa Si O N薄膜の機械的及び光学的性質の合成と特性化【Powered by NICT】

Synthesis and characterization of the mechanical and optical properties of Ca-Si-O-N thin films deposited by RF magnetron sputtering

著者 (8件)： Ali Sharafat (School of Engineering, Department of Built Environment and Energy Technology, Linnaeus University, SE-351 95 Vaexjo, Sweden) ,  Ali Sharafat (Science and Technology Division, Corning Incorporated, Corning, NY 14831, USA) ,  Paul Biplab (Department of Physics, Chemistry and Biology (IFM), Linkoping University, SE-58183 Linkoping, Sweden) ,  Magnusson Roger (Department of Physics, Chemistry and Biology (IFM), Linkoping University, SE-58183 Linkoping, Sweden) ,  Broitman Esteban (Department of Physics, Chemistry and Biology (IFM), Linkoping University, SE-58183 Linkoping, Sweden) ,  Jonson Bo (School of Engineering, Department of Built Environment and Energy Technology, Linnaeus University, SE-351 95 Vaexjo, Sweden) ,  Eklund Per (Department of Physics, Chemistry and Biology (IFM), Linkoping University, SE-58183 Linkoping, Sweden) ,  Birch Jens (Department of Physics, Chemistry and Biology (IFM), Linkoping University, SE-58183 Linkoping, Sweden)
資料名： Surface & Coatings Technology  (Surface & Coatings Technology)
巻： 315  ページ： 88-94  発行年： 2017年 
JST資料番号： D0205C  ISSN： 0257-8972  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Ca Si O N薄膜をAr/N_2/O_2ガス混合物中でCaとSiターゲットからのRFマグネトロン共スパッタリングによる市販ソーダ石灰ケイ酸塩フロートガラス,シリカウエハとサファイア基板上に堆積した。膜の化学組成,表面形態,硬度,還元弾性率と光学的性質をX線光電子分光法,走査電子顕微鏡,ナノインデンテーション,および分光学的偏光解析法を用いて調べた。膜の組成は,Caターゲットパワー,主に,および反応性ガス流により制御できることが分かった。Ca-Si-O-N系における薄膜を31当量までNおよびCa含有量で構成されている。%と60当量。%であった。膜厚さが600から3000nmの範囲にあり,Caターゲットパワーの増加と共に増加した。膜表面粗さは2と12nmの間で変動し,Caターゲットの電力増加とともに減少した。膜の硬度(4 12GPa)と換算弾性率(65 145GPa)は,それぞれNおよびCa含有量と共に増加し,減少した。屈折率(1.56 1.82)は主にN含有量によって決定される。特性をCa-Si-(Al)-O-N系におけるバルクガラスの所見と比較し,Ca Si O N薄膜は,同じ組成のバルクガラスより硬度,弾性率および屈折率のより高い値を持つと結論された。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： *キャラクタリゼーション ,  *マグネトロンスパッタリング ,  *ケイ素 ,  膜厚 ,  弾性係数 ,  アルゴン ,  化学組成 ,  *薄膜 ,  X線光電子分光法 ,  混合気体 ,  *光学的性質 ,  屈折率 ,  走査電子顕微鏡 ,  *カルシウム ,  硬度

著者キーワード (6件)： Ca Si O N薄膜 ,  マグネトロンスパッタリング ,  高カルシウム含量 ,  Hardness ,  弾性係数 ,  屈折率

分類 (1件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

タイトルに関連する用語 (7件)： RFマグネトロンスパッタリング ,  堆積 ,  Ca ,  Si ,  薄膜 ,  光学的性質 ,  特性化