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J-GLOBAL ID:201702234777599215   整理番号:17A1238981

側鎖層内の移動気相ゲストのインターカレーションに及ぼすホスト層-重層フレームワークの逐次段階的進化【Powered by NICT】

Successive stepwise evolution of host layer-stacking framework upon the intercalation of mobile vapor guests within side-chain layers
著者 (4件):
資料名:
巻: 55  号: 19  ページ: 1448-1457  発行年: 2017年 
JST資料番号: C0346B  ISSN: 0887-6266  CODEN: JPLPAY  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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ヘキサメチルベンゼンの結晶小板の間に挟まれた毛状ロッド半導体ポリ(2,5-ビス(3-テトラデシルチオフェン-2-イル)チエノ[3,2-b]チオフェン)(PBTTT)の秩序相では,ゲストインターカレーションによる層積層フレームワークの連続段階的変化を本研究で研究した。側鎖層へのゲストインターカレーションの直接の結果は,π-π積層に沿ったチオフェン骨格の横方向シフトを引き起こすこと評価し,紫外吸収波長の段階的シフトをもたらした。無秩序側鎖層内の蒸気ゲストの熱運動はその後に宿主積層フレームワークの進行性拡大を引き起こした。側鎖長さの増加に伴い,液晶(LC)における不規則化側鎖の厚い層は付加的な気相ゲストとゲストの熱運動のより大きな振幅を,可逆的d間隔変化のレベルを促進した。移動気相ゲストと脂肪族側鎖の間の混合は,ゲストインターカレーションの機構,加熱中の連続ゲストインターカレーションと不規則化側鎖層の寄与を合理的に説明するとして明らかにした。Copyright 2017 Wiley Publishing Japan K.K. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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分類 (1件):
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高分子固体の構造と形態学 

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